[實(shí)用新型]射頻標(biāo)簽酸堿洗設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420468035.3 | 申請(qǐng)日: | 2014-08-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204018312U | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-12-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐建華 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 諾瓦特倫(杭州)電子有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B08B7/04 | 分類(lèi)號(hào): | B08B7/04;B08B3/08;B08B3/02;C23G3/00 |
| 代理公司: | 杭州華知專(zhuān)利事務(wù)所 33235 | 代理人: | 張德寶 |
| 地址: | 311121 浙江省*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 射頻 標(biāo)簽 酸堿 設(shè)備 | ||
1.一種射頻標(biāo)簽酸堿洗設(shè)備,它包括傳送裝置,其特征在于:它還包括酸洗去線圈外的鋁箔裝置、堿洗去線圈上的油墨裝置,所述酸洗去線圈外的鋁箔裝置和堿洗去線圈上的油墨裝置之間設(shè)有第一清洗吸干裝置,堿洗去線圈上的油墨裝置的出口端設(shè)有第二清洗吸干裝置,射頻標(biāo)簽通過(guò)傳送裝置依次通過(guò)酸洗去線圈外的鋁箔裝置、第一清洗吸干裝置、堿洗去線圈上的油墨裝置和第二清洗吸干裝置。?
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射頻標(biāo)簽酸堿洗設(shè)備,其特征在于:所述酸洗去線圈外的鋁箔裝置包括儲(chǔ)酸箱和至少一個(gè)蝕刻機(jī),儲(chǔ)酸箱和蝕刻機(jī)之間通過(guò)管道相連通,進(jìn)入到蝕刻機(jī)內(nèi)的管道端頭上設(shè)有噴淋頭。?
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射頻標(biāo)簽酸堿洗設(shè)備,其特征在于:所述堿洗去線圈上的油墨裝置包括儲(chǔ)堿箱和至少一個(gè)去墨機(jī),儲(chǔ)堿箱和去墨機(jī)之間通過(guò)管道相連通,進(jìn)入到去墨機(jī)內(nèi)的管道端頭上設(shè)有噴淋頭。?
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射頻標(biāo)簽酸堿洗設(shè)備,其特征在于:所述第一清洗吸干裝置包括沖污箱、四級(jí)水洗箱和第一烘干機(jī),所述沖污箱內(nèi)設(shè)有初級(jí)去酸清洗噴淋頭,所述四級(jí)水洗箱內(nèi)設(shè)有依次設(shè)有四個(gè)次級(jí)去酸清洗噴淋頭。?
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射頻標(biāo)簽酸堿洗設(shè)備,其特征在于:所述第二清洗吸干裝置包括熱水沖污箱、三級(jí)水洗箱和第二烘干機(jī),所述熱水沖污箱內(nèi)設(shè)有初級(jí)去堿清洗噴淋頭,所述三級(jí)水洗箱內(nèi)依次設(shè)有三個(gè)次級(jí)去堿清洗噴淋頭。?
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射頻標(biāo)簽酸堿洗設(shè)備,其特征在于:所述第一清洗吸干裝置和堿洗去線圈上的油墨裝置之間設(shè)有檢驗(yàn)臺(tái)。?
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的射頻標(biāo)簽酸堿洗設(shè)備,其特征在于:所述酸洗去線圈外的鋁箔裝置包括三個(gè)相互串聯(lián)的蝕刻機(jī)。?
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的射頻標(biāo)簽酸堿洗設(shè)備,其特征在于:所述堿洗去線圈上的油墨裝置包括兩個(gè)相互串聯(lián)的去墨機(jī)。?
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