[實用新型]一種電遷移測試結構

有效

• 申請號: 201420463368.7
• 申請日: 2014-08-15
• 公開（公告）號: CN204045580U
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發明（設計）人: 王佼;宋永梁
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: H01L23/544
• 分類號: H01L23/544
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 李儀萍

1.一種電遷移測試結構，位于晶圓切割道上，包括測試結構主體、保護環、第一金屬焊墊、第二金屬焊墊、第三金屬焊墊及第四金屬焊墊，其特征在于：?

所述測試結構主體位于所述保護環內，所述第一、第二、第三及第四金屬焊墊位于所述保護環外；?

所述測試結構主體與各金屬焊墊之間分別通過一阱連接結構連接；所述阱連接結構包括依次連接的第一層間金屬互連層、第一N型重摻雜層、N阱、第二N型重摻雜層及第二層間金屬互連層，其中，所述N阱形成于P型襯底中，所述第一N型重摻雜層與第二N型重摻雜層均形成于所述N阱上，所述第一N型重摻雜層與第二N型重摻雜層之間形成有P型重摻雜層并通過隔離結構隔離；?

所述保護環與所述P型重摻雜層連接；?

所述P型襯底與所述保護環均與所述第三金屬焊墊連接。?

2.根據權利要求1所述的電遷移測試結構，其特征在于：所述測試結構主體包括待測金屬線及圍繞所述待測金屬線的虛擬金屬；所述待測金屬線的第一端及第二端分別通過金屬插塞與第一上層金屬線及第二上層金屬線連接；所述第一上層金屬線包括第一電壓測量端口及第一電流測量端口，所述第二上層金屬線包括第二電壓測量端口及第二電流測量端口；所述第一電壓測量端口、第一電流測量端口、第二電壓測量端口及第二電流測量端口分別通過一個所述阱連接結構與所述第一、第二、第三、第四金屬焊墊連接。?

3.根據權利要求2所述的電遷移測試結構，其特征在于：所述虛擬金屬包括一圍繞所述待測金屬線的閉合金屬環及分布于所述金屬環兩側的若干金屬線。?

4.根據權利要求1所述的電遷移測試結構，其特征在于：所述第二層間金屬互連層通過第三上層金屬線連接于相應的金屬焊墊。?

5.根據權利要求1所述的電遷移測試結構，其特征在于：所述P型襯底依次通過第三層間金屬互連層及第四上層金屬線與所述第三金屬焊墊連接。?

6.根據權利要求1所述的電遷移測試結構，其特征在于：所述N阱旁還形成有P阱。?

7.根據權利要求1所述的電遷移測試結構，其特征在于：所述保護環位于所述切割道中部，?且除所述第一、第二、第三及第四金屬焊墊以外，所述電遷移測試結構包括金屬的區域寬度小于或等于30微米。?

8.根據權利要求1所述的電遷移測試結構，其特征在于：所述第一、第二、第三及第四金屬焊墊位于所述切割道中部，且各金屬焊墊的頂層金屬寬度小于或等于30微米。?

9.根據權利要求1所述的電遷移測試結構，其特征在于：所述隔離結構為淺溝槽隔離。?