[實用新型]氣體處理設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420459194.7 | 申請日: | 2014-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN204114966U | 公開(公告)日: | 2015-01-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 葉原廷;顏成偉 | 申請(專利權(quán))人: | 鼎樫科技股份有限公司 |
| 主分類號: | F23G7/06 | 分類號: | F23G7/06;B01D53/32;B01D53/18;B01D47/06;B01D50/00 |
| 代理公司: | 北京泰吉知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11355 | 代理人: | 張雅軍 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣體 處理 設(shè)備 | ||
1.一種氣體處理設(shè)備,包含:一個電漿火炬裝置、一個連通該電漿火炬裝置的氣液洗滌裝置,以及一個連通該氣液洗滌裝置的氣液分離裝置;該氣液洗滌裝置可將該電漿火炬裝置燃燒處理后的氣體、微粒捕捉混于水中,該氣液分離裝置可收集該氣液洗滌裝置傳送而來的水,并排出不溶于水的氣體;其特征在于:該電漿火炬裝置包括一個電極單元、一個氣流產(chǎn)生單元、一個前冷卻單元,以及一個后冷卻單元;該電極單元具有依序設(shè)置的一個前電極、一個中央電極、一個后電極,以及一個貫穿該前電極、該中央電極與該后電極的中央通道,該中央電極與該后電極可被驅(qū)動而在該中央通道內(nèi)放電產(chǎn)生初級電弧,該前電極與該后電極可被驅(qū)動而在該中央通道內(nèi)放電產(chǎn)生次級電弧,而該中央通道連通該氣液洗滌裝置;該氣流產(chǎn)生單元與該電極單元結(jié)合安裝,并可將氣體送入該中央通道內(nèi)進行裂解處理,該氣流產(chǎn)生單元包括一個安裝于該中央電極與該后電極之間且可將氣體送入該中央通道的第一進氣機構(gòu),以及一個安裝于該中央電極與該前電極之間且可將氣體送入該中央通道的第二進氣機構(gòu);該前冷卻單元圍繞于該前電極之外而用于降低該前電極的溫度;該后冷卻單元圍繞于該后電極之外而用于降低該后電極的溫度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理設(shè)備,其特征在于:該第一進氣機構(gòu)具有一個安裝于該中央電極與該后電極之間且圍繞該中央通道的第一套環(huán)件,以及數(shù)個連通該中央通道而可將氣體送入該中央通道的第一氣道,該第二進氣機構(gòu)具有一個安裝于該中央電極與該前電極之間且圍繞該中央通道的第二套環(huán)件,以及數(shù)個連通該中央通道而可將氣體送入該中央通道的第二氣道。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣體處理設(shè)備,其特征在于:該第一套環(huán)件具有一個第一內(nèi)環(huán)面,而所述第一氣道分別由該第一內(nèi)環(huán)面的切點向外延伸,以使送入該中央通道內(nèi)的氣體產(chǎn)生漩渦流,該第二套環(huán)件具有一個第二內(nèi)環(huán)面,而所述第二氣道分別由該第二內(nèi)環(huán)面的切點向外延伸,以使送入該中央通道內(nèi)的氣體產(chǎn)生漩渦流。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理設(shè)備,其特征在于:該后電極具有一個圍繞該中央通道的后內(nèi)側(cè)面,該后冷卻單元具有一個圍繞于該后電極之外的后冷卻套,以及一個位于該后冷卻套與該后電極之間且可降低該后電極的溫度的后冷卻空間,而該電漿火炬裝置還包括一個移動磁座單元,該移動磁座單元具有一個安裝于該后冷卻空間內(nèi)且可移動地圍繞于該后電極之外的移動磁性座,以及一個用于驅(qū)動該移動磁性座相對該后電極移動的驅(qū)動機構(gòu),通過該移動磁性座相對該后電極移動,進而帶動初級電弧與次級電弧的弧根在該后電極的后內(nèi)側(cè)面移動。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣體處理設(shè)備,其特征在于:該中央通道沿著一個軸線長向延伸,而該移動磁性座可沿著該軸線往復(fù)移動,進而帶動初級電弧與次級電弧的弧根在該后電極的后內(nèi)側(cè)面沿著該軸線往復(fù)移動。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理設(shè)備,其特征在于:該前冷卻單元具有一個圍繞于該前電極之外的前冷卻套,以及一個位于該前冷卻套與該前電極之間且可降低該前電極的溫度的前冷卻空間,而該電漿火炬裝置還包括一個安裝于該前冷卻空間內(nèi)且圍繞該前電極而遠(yuǎn)離該后電極的固定磁座單元。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理設(shè)備,其特征在于:該前冷卻單元具有一個圍繞于該前電極之外的水冷套,以及一個位于該水冷套與該前電極之間的水冷空間,該水冷空間具有至少一個入口,以及至少一個貫穿該前電極而連通該中央通道的出口。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣體處理設(shè)備,其特征在于:該前冷卻單元還具有一個圍繞于該水冷套之外的前冷卻套,以及一個位于該前冷卻套與該水冷套之間且可降低該水冷套的溫度的前冷卻空間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理設(shè)備,其特征在于:該氣液洗滌裝置包括一個第一氣液混合單元,該第一氣液混合單元具有一個第一管體,以及一個由該第一管體圍繞界定而成且連通該中央通道的混合通道,該第一管體具有一個圍繞該混合通道的內(nèi)管面,以及數(shù)個連通該混合通道的噴水道,每一個噴水道沿著一直線長向延伸,每一個直線與該內(nèi)管面的一個切面的夾角大于0度小于90度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的氣體處理設(shè)備,其特征在于:該氣液洗滌裝置的第一氣液混合單元還具有一個與該第一管體間隔的第二管體,以及一個位于該第一管體與該第二管體之間且可供水注入的內(nèi)部空間,該內(nèi)部空間連通所述噴水道。
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