[實用新型]一種長壽命磁控濺射靶材有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420452183.6 | 申請日: | 2014-08-12 |
| 公開(公告)號: | CN204097558U | 公開(公告)日: | 2015-01-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅俊鋒;劉書芹;萬小勇;董亭義;何金江;于海洋;劉冬青;呂保國 | 申請(專利權(quán))人: | 有研億金新材料有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京北新智誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11100 | 代理人: | 劉秀青;熊國裕 |
| 地址: | 102200*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 壽命 磁控濺射 | ||
1.一種長壽命磁控濺射靶材,包括濺射面和冷卻面,其特征在于,所述濺射面的濺射區(qū)域在靶材原濺射區(qū)的基礎(chǔ)上增厚2mm以內(nèi),增厚部分的面積小于靶材原濺射區(qū)域,且增厚部分的邊緣與靶材原濺射區(qū)域之間呈臺階狀或斜坡狀。
2.如權(quán)利要求1所述的長壽命磁控濺射靶材,其特征在于,所述靶材原濺射區(qū)的厚度為5.8~6.2mm。
3.如權(quán)利要求1所述的長壽命磁控濺射靶材,其特征在于,所述增厚部分大于靶材實際濺射區(qū)域。
4.如權(quán)利要求1所述的長壽命磁控濺射靶材,其特征在于,所述增厚部分距離長邊3~5mm。
5.如權(quán)利要求1所述的長壽命磁控濺射靶材,其特征在于,所述增厚部分的寬度為117~121mm。
6.如權(quán)利要求1所述的長壽命磁控濺射靶材,其特征在于,所述增厚部分距離寬邊5~7mm。
7.如權(quán)利要求1所述的長壽命磁控濺射靶材,其特征在于,所述增厚部分的長度為367~371mm。
8.如權(quán)利要求1所述的長壽命磁控濺射靶材,其特征在于,所述靶材為單體靶或焊接型靶。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





