[實用新型]高透過消影導電玻璃

有效

• 申請號: 201420450152.7
• 申請日: 2014-08-11
• 公開（公告）號: CN204210110U
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發明（設計）人: 徐根保;蔣繼文;張寬翔;姚婷婷;曹欣;楊勇;金克武
• 申請（專利權）人: 中國建材國際工程集團有限公司;蚌埠玻璃工業設計研究院
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;B32B33/00
• 代理公司: 上海碩力知識產權代理事務所 31251
• 代理人: 王法男

技術領域

本實用新型涉及顯示領域，涉及一種消影導電玻璃，特別涉及一種用于觸摸屏以及平板顯示領域的消影導電玻璃。?

背景技術

如今，觸摸屏廣泛應用于各種需要人機交互終端的電子產品，如：液晶電視、等離子電視、各種監測器等大尺寸電子產品，游戲機、平板電腦、e-book等中尺寸電子產品，和遙控器、智能手機、PDA(掌上電腦)等小尺寸電子產品。?

但目前觸摸屏存在最大的問題是顯示陰影問題：由于透明導電膜的折射率與觸摸屏玻璃基板的折射率不同，如ITO膜(AZO膜或FTO膜)折射率n一般為1.9-2.0(550nm附近)，玻璃基板的折射率約為1.5(550nm附近)，導致顯示區內電極與電極縫隙之間的反射率有較大區別(一般為3％)，使電極與縫隙清晰可見，即存在刻蝕陰影，影響顯示效果和外觀，而且觸摸屏尺寸越大，透明導電電極膜層厚度和電極寬度越大，以上電極與縫隙的視覺差距越明顯。?

目前解決這一問題的主要方法是在透明導電電極與玻璃基板之間引入折射率匹配層，通過光學介質的干涉相消作用，起到消除刻蝕陰影作用，例如專利號為201220350209.7的實用新型專利公開的消影玻璃和專利號為201310125495.6的實用新型專利公開的一種消影透明導電膜都是采用添加折射率匹配層來實現消影作用，折射率匹配層由至少一層高折射率層和至少一層低折射率層依次交替疊加而成，所采用的高折射率介質層折射率為2.1～2.4，而低折射率介質層折射率為1.4～1.5，兩種介質由于折射率相差較大導致折射率匹配層整體折射率變化不夠均勻，會影響光的透過性能，所以采用這種方式的消影導電玻璃的反射率一般為10％左右。?

SiOxNy是SiO₂和Si₃N₄的中間相,其光學和電學性能介于兩者之間,因而?可通過改變化學組成,可使其折射率變化范圍為1.47～2.3，因此可以將SiOxNy膜層加入到高折射率層與低折射率層之間，并且通過連續控制工藝參數改變其化學成分，使其成為一層折射率漸變的膜層材料，并且折射率自自高折射率層(Si₃N₄、TiO₂或Nb₂O₅膜層)向低折射率層(SiO₂膜層)逐漸降低，即可實現整個折射率匹配層折射率變化的均勻性，可顯著提高消影導電玻璃的透過性能，有效抑制其反射特性。?

綜上所述，雖然現有技術可以實現導電玻璃的消影功能，但由于膜層折射率變化不夠均勻，會降低其透過性能，而通過在折射率匹配層中引入一層折射率漸變層(SiOxNy層)可以解決上述問題。?

實用新型內容

本實用新型旨在提供一種高透過消影導電玻璃，使導電玻璃在實現消影的同時可以大幅度提高其透過特性。?

為了達成上述目的，本實用新型提供了一種高透過消影導電玻璃，沿垂直方向依次層疊的玻璃基板，折射率匹配層，和透明導電膜層，所述折射率匹配層由高折射率層，折射率漸變層，及低折射率層組成，所述折射率漸變層沿垂直方向位于所述高折射率層和所述低折射率層之間，所述高折射率層與所述玻璃基板相連，所述低折射率層連接至所述透明導電膜層。所述折射率匹配層由SiOxNy構成，所述SiOxNy為SiO₂和Si₃N₄的中間相。?

一些實施例中，所述折射率漸變層的折射率沿從所述高折射率層向所述低折射率層的方向逐漸降低。?

一些實施例中，所述折射率漸變層的厚度為20nm～100nm。?

一些實施例中，所述高折射率層為Si₃N₄，TiO₂，或Nb₂O₅膜層，厚度為5nm～30nm。?

一些實施例中，所述低折射率層為SiO₂膜層，厚度為10nm～50nm。?

一些實施例中，所述玻璃基板為普通光電玻璃，厚度為0.3mm，0.7mm，1.1mm。?

一些實施例中，所述透明導電膜層為ITO(In₂O₃:Sn)，AZO(ZnO:Al)，或?FTO(SnO₂:F)，厚度為10nm～100nm。?