[實用新型]一種中大尺寸藍寶石晶圓圖案化制程蝕刻后清洗裝置有效
| 申請號: | 201420449709.5 | 申請日: | 2014-08-11 |
| 公開(公告)號: | CN204093771U | 公開(公告)日: | 2015-01-14 |
| 發明(設計)人: | 劉伯彥;王曉靁;劉崇志;鐘其龍 | 申請(專利權)人: | 廈門潤晶光電有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/08 | 分類號: | B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司: | 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203 | 代理人: | 李寧 |
| 地址: | 361000 福建省廈門市火炬*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 尺寸 藍寶石 圖案 化制程 蝕刻 清洗 裝置 | ||
1.一種中大尺寸藍寶石晶圓圖案化制程蝕刻后清洗裝置,其特征在于:由電機、真空吸附臺和頂部噴頭組成,真空吸附臺安裝在電機的輸出端,真空吸附臺中形成通氣道,通氣道的下端接氣源,真空吸附臺上對應藍寶石晶圓的底面開設一圈出氣孔與通氣道的上端連接,頂部噴頭安裝在真空吸附臺上方。
2.如權利要求1所述的一種中大尺寸藍寶石晶圓圖案化制程蝕刻后清洗裝置,其特征在于:頂部噴頭包括兩個去離子水噴頭、SPM噴頭和cold?SC1噴頭。
3.如權利要求1所述的一種中大尺寸藍寶石晶圓圖案化制程蝕刻后清洗裝置,其特征在于:出氣孔由下至上呈向外傾斜狀。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廈門潤晶光電有限公司,未經廈門潤晶光電有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420449709.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





