[實用新型]一種流動式自動浸釉裝置

有效

• 申請號: 201420446658.0
• 申請日: 2014-08-09
• 公開（公告）號: CN203976646U
• 公開（公告）日: 2014-12-03
• 發明（設計）人: 梁康寧;羅振錦;呂昌保
• 申請（專利權）人: 廣西北流市智誠陶瓷自動化科技有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

1.一種流動式自動浸釉裝置,?大釉池（10）放置在地面上，支架（12）整個放在大釉池（10）內部，所述支架（12）上方支撐上釉池（6），支架（12）的上方一側安裝補釉裝置，所述上釉池（6）上方有傳送支架一（13）和傳送帶一（1）穿過，所述傳送帶一（1）安裝在傳送支架一（13）上，在所述傳送帶一（1）的上方為碗托（7），碗托（7）上安放碗坯（3）；所述補釉裝置包括抽釉電機（8）、大釉池（10）、上釉池進釉口（11）、釉泵（15）、釉泵出口（14）和釉泵進口（16），所述抽釉電機（8）安裝在支架（12）的一側上方，抽釉電機（8）輸出軸端連接釉泵（15），所述釉泵（15）也安裝在支架（12）的上方，釉泵（15）分別與釉泵出口（14）和釉泵進口（16）聯通，釉泵出口（14）接入上釉池進釉口（11），釉泵進口（16）聯通大釉池（10）。

2.根據權利要求1所述的流動式自動浸釉裝置，其特征在于:所述上釉池（6）的其中一相對的兩側加工有缺口，缺口的高度大于碗托（7）上方高度，缺口的寬度等于傳送支架一（13）的寬度。

3.根據權利要求1所述的流動式自動浸釉裝置，其特征在于:所述碗托（7）為弓字形，中間加工有圓形凹槽，圓形凹槽的底部加工有圓孔。