[實用新型]ITO導電玻璃有效
| 申請號: | 201420444170.4 | 申請日: | 2014-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN204079779U | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發明(設計)人: | 劉玉華;方鳳軍;陳立;譚偉;杜曉峰 | 申請(專利權)人: | 宜昌南玻顯示器件有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/34 | 分類號: | C03C17/34;B32B17/06 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 生啟 |
| 地址: | 443000*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | ito 導電 玻璃 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種用于中大尺寸電容式觸摸屏的無色低阻消影的ITO導電玻璃。
背景技術
ITO導電玻璃是在鈉鈣基片或硅硼基基片玻璃的基礎上,利用磁控濺射的方法依次沉積二氧化硅(SiO2)和氧化銦錫(通稱ITO)薄膜加工制作成的。
ITO是一種具有良好透明導電性能的金屬化合物,具有禁帶寬、可見光譜區光透射率高和電阻率低等特性,ITO導電玻璃廣泛地應用于平板顯示器件、太陽能電池、特殊功能窗口涂層及其他光電器件領域,是目前LCD、PDP、OLED、觸摸屏等各類平板顯示器件廣泛采用的透明導電電極材料。作為平板顯示器件的關鍵基礎材料,ITO導電玻璃其隨著平板顯示器件的不斷更新和升級而具有更加廣闊的市場空間。
傳統的應用于電容式觸摸屏的消影玻璃一般通過在玻璃和ITO之間濺鍍高折射率、低折射率兩層結構的消影膜層,使得ITO線條與刻蝕區之間的色差和透過率之差減小,達到消影的目的。這種消影玻璃電阻比較高,較適用于中小尺寸電容式觸摸屏。對于中大尺寸電容屏,因觸控精度要求,需要電阻更低、膜層更厚的ITO膜層。此時,高折射率、低折射率匹配做為消影層結構時,要實現較為理想的消影效果,因ITO膜層太厚,ITO顏色會比較重,從而ITO線和蝕刻區域無法達到顏色上的盡可能相同,即雖能實現透過率上相差較近,但顏色差異的存在影響消影效果,導致消影效果仍然較差。因此,大尺寸的電容式觸摸屏往往需要較低面電阻的顏色盡可能無色的低阻消影ITO導電玻璃。
同時,常規消影ITO產品所需高折射率材料多采用Nb2O5,ITO后續加工工序中會有堿液脫膜、加堿超聲清洗等工序,而Nb2O5會同堿液反應而溶解,ITO的附著力、致密性將受到影響,嚴重的會出現ITO膜層脫落,影響產品的觸控功能。而若采用TiO2、ZrO2或Si3N4等材料做為高折射率材料,則無論堿液脫膜、還是加堿超聲,消影層都不會同堿液反應,ITO膜層的附著力、致密性更有保證,從而用此類材料生產的ITO玻璃制備的電容屏產品的觸控功更有保證。
實用新型內容
基于此,有必要提供一種在面電阻較低時顏色盡可能無色且能夠實現消影目的的ITO導電玻璃。
一種ITO導電玻璃,包括依次層疊的玻璃、第一高折射率層、第一低折射率層、第二高折射率層、第二低折射率層以及ITO層;
所述第一高折射率層的材料為TiO2、ZrO2或Si3N4;
所述第一低折射率層的材料為SiO2或MgF2;
所述第二高折射率層的材料為TiO2、ZrO2或Si3N4;
所述第二低折射率層的材料為SiO2或MgF2;
所述第一高折射率層的厚度為
所述第一低折射率層的厚度為
所述第二高折射率層的厚度為
所述第二低折射率層的厚度為
在一個實施例中,所述第一高折射率層的厚度為
在一個實施例中,所述第一低折射率層的厚度為
在一個實施例中,所述第二高折射率層的厚度為
在一個實施例中,所述第二低折射率層的厚度為
在一個實施例中,所述ITO層的厚度為
在一個實施例中,所述ITO導電玻璃的面電阻為10歐姆~14歐姆、14歐姆~20歐姆、17~25歐或20歐姆~30歐姆。
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