[實用新型]曝光設備的光源模塊

有效

• 申請號: 201420439465.2
• 申請日: 2014-08-06
• 公開（公告）號: CN204086809U
• 公開（公告）日: 2015-01-07
• 發明（設計）人: 周坤麟;何立克
• 申請（專利權）人: 敘豐企業股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B7/02
• 代理公司: 北京市浩天知識產權代理事務所 11276
• 代理人: 宋菲;劉云貴

技術領域

本實用新型涉及一種用于曝光設備中的光源模塊。

背景技術

在制造電路板的制程中，需采用光學微影蝕刻的步驟在電路板基板上形成電路圖案(pattern)，該光學微影蝕刻是在將電路板基板上涂布光阻層，并利用曝光設備曝光，再借由顯影、蝕刻的過程使電路圖案形成在該電路板基板上。其中，該曝光設備將光投射至曝光平面上而形成曝光區域，涂布有光阻層并設置有光罩的電路板基板對位放置于該曝光區域內，借由激發光讓光阻感光來發生化學反應，使得被曝光的光阻與被光罩遮避的光阻對顯影液具有不同的溶解度。該曝光區域內有曝光均勻度的要求，即在該曝光區域的范圍內任一點接收到的能量必須在一特定范圍內，才能使該電路板基板上被曝光部分的光阻的溶解度一致。

現有曝光設備的光源模塊在多個LED前方各自對應設置一透鏡，每一LED發出的光線經過該透鏡折射后形成錐狀光束投射至曝光平面上，每一LED投射到該曝光平面的光強度會由中心朝邊緣遞減，即在鄰近中心位置所接收到的光強度較強，而遠離中心位置接收到的光強度較弱。因此，為了達成曝光區域內的曝光均勻度的要求，必須依據投射到該曝光平面上的相鄰光束重疊的區域的光強度與投射到該曝光平面上的每一光束中心位置的光強度，來精密地調整這些LED之間的相對位置，以使所有LED共同投射到該曝光平面上所形成的曝光區域內的光強度均勻。這樣，導致了現有曝光設備的光源結構復雜，導致裝設、維護與校正困難及成本高昂等缺點。

實用新型內容

為解決上述現有技術的缺陷，本實用新型的主要目的在于提供一種曝光設備的光源模塊，其可使射出的光線為平行光。

為達上述目的及其他目的，本實用新型提供一種曝光設備的光源模塊，包含基座、第一透鏡、光源單元、第二透鏡及第一調整件或第二調整件，該基座具有容置槽；該第一透鏡設置于該基座的容置槽的開口上；該光源單元設置于該容置槽的底面，該光源單元具有電路板及設置于該電路板上的LED；該第二透鏡設置于該LED上，該第二透鏡的面積小于該第一透鏡；該第一調整件連接該第一透鏡與該基座，用于調整該第一透鏡與該第二透鏡間的距離，該第二調整件連接該第二透鏡與該基座，用于調整該第一透鏡與該第二透鏡間的距離；其中，該光源單元的LED發出的光線經由第二透鏡折射后再被該第一透鏡折射而呈平行光射出。

上述的曝光設備的光源模塊，其中該第一透鏡朝向該第二透鏡的第一表面為平面，該第二透鏡朝向該LED的第二表面為平面。

上述的曝光設備的光源模塊，其中該第一調整件為墊片，該第二調整件為墊片。

上述的曝光設備的光源模塊，其中該LED為紫外光LED(UV-LED)。

上述的曝光設備的光源模塊，其中該LED發出的光線的波長為365nm。

上述的曝光設備的光源模塊，其中該光源單元具有設置于該電路板上的溫度傳感器。

上述的曝光設備的光源模塊，其中進一步包含一散熱件，其連接該電路板。

據此，本實用新型實施例的光源模塊可使該LED的光線呈平行光射出，而可使曝光平面上的曝光區域接收到均勻分布的光強度。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例的曝光設備的光源模塊的剖面示意圖。

圖2為本實用新型實施例的曝光設備的光源模塊的立體示意圖。

主要部件附圖標記：

1????光源模塊

10???基座

11???容置槽

20???第一透鏡

21???第一表面

30???光源單元

31???電路板

32???LED

33???溫度傳感器

40???第二透鏡

41???第二表面

50???第一調整件

60???第二調整件

70???散熱件

具體實施方式

為充分了解本實用新型的目的、特征及技術效果，茲由下述具體實施例，并結合附圖，對本實用新型做詳細說明，說明如下：