[實用新型]一種應用于高溫高壓及其波動工況的法蘭組件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420437648.0 | 申請日: | 2014-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN204025983U | 公開(公告)日: | 2014-12-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳孫藝;章蘭珠 | 申請(專利權(quán))人: | 茂名重力石化機械制造有限公司 |
| 主分類號: | F16L23/16 | 分類號: | F16L23/16;F16J15/12 |
| 代理公司: | 東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215 | 代理人: | 劉克寬 |
| 地址: | 525024 廣東省茂名市環(huán)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 應用于 高溫 高壓 及其 波動 工況 法蘭 組件 | ||
1.一種應用于高溫高壓及其波動工況的法蘭組件,包括具有第一密封面的第一法蘭,以及具有第二密封面的第二法蘭,所述第一密封面和所述第二密封面之間設置有密封墊片,所述第一法蘭、所述密封墊片和所述第二法蘭在緊固件的作用下緊密貼合,其特征在于:所述第一法蘭包括自所述第一法蘭的法蘭盤的內(nèi)表面向外凸出的外凸臺階,所述外凸臺階由依次相接的第一外凸環(huán)面、第一環(huán)形平面以及第二外凸環(huán)面組成,所述第一外凸環(huán)面和所述第二外凸環(huán)面平行設置、且所述第一外凸環(huán)面和所述第二外凸環(huán)面均與所述第一環(huán)形平面垂直設置;所述第二法蘭包括自所述第二法蘭的法蘭盤的內(nèi)表面向內(nèi)凹進的內(nèi)凹臺階,所述內(nèi)凹臺階包括由依次相接的第一內(nèi)凹環(huán)面和第二環(huán)形平面組成,所述第一內(nèi)凹環(huán)面和所述第二環(huán)形平面垂直設置;所述外凸臺階的臺階面的寬度小于所述內(nèi)凹臺階的臺階面的寬度,所述外凸臺階和所述內(nèi)凹臺階之間留有間隙;所述第一環(huán)形平面為所述第一法蘭的第一密封面,所述第二環(huán)形平面為所述第二法蘭的第二密封面;所述密封墊片包括墊片本體,所述墊片本體為由環(huán)形基體和設置于所述環(huán)形基體的外表面的凹槽的填料層組成的呈碟形斜面密封面的墊片本體,所述環(huán)形基體的中心孔的截面形狀為等腰梯形,所述密封墊片鄰近所述環(huán)形基體的中心孔的最高沿抵接于所述第一環(huán)形平面的內(nèi)緣部,所述密封墊片遠離所述環(huán)形基體的中心孔的最高沿抵接于所述第二環(huán)形平面的外緣部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應用于高溫高壓及其波動工況的法蘭組件,其特征在于:所述碟形斜面密封面的形狀包括圓錐形斜面、凸弧形斜面和凹弧形斜面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應用于高溫高壓及其波動工況的法蘭組件,其特征在于:所述環(huán)形基體為由基體單元沿周向旋轉(zhuǎn)形成的封閉結(jié)構(gòu),所述基體單元的形狀為梯形、矩形和三角形中的任一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應用于高溫高壓及其波動工況的法蘭組件,其特征在于:所述環(huán)形基體為由單層金屬體組成或者為由兩層以上金屬體密封連接組成,所述兩層以上金屬體間相鄰的兩層金屬體在其一端沿通過焊接密封連接,其另一端沿呈開口結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應用于高溫高壓及其波動工況的法蘭組件,其特征在于:所述環(huán)形基體的凹槽為齒條形凹槽、弧線形凹槽、矩形凹槽和波紋線形凹槽中的任一種凹槽或者任幾種凹槽的組合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應用于高溫高壓及其波動工況的法蘭組件,其特征在于:所述環(huán)形基體的上端沿和下端沿均倒圓角設置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應用于高溫高壓及其波動工況的法蘭組件,其特征在于:所述填料層為石墨層、橡膠層、塑料層和粘膠層中的任一種填料層或者任幾種填料層的組合。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應用于高溫高壓及其波動工況的法蘭組件,其特征在于:所述第一內(nèi)凹環(huán)面的高度大于所述第一外凸環(huán)面的高度。
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