[實用新型]真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201420436502.4
• 申請日: 2014-08-04
• 公開（公告）號: CN203976904U
• 公開（公告）日: 2014-12-03
• 發明（設計）人: 熊丹
• 申請（專利權）人: 熊丹
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/24
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

1.一種真空鍍膜裝置，適用于對玻璃基片的真空鍍膜，其特征在于：包括主腔體、小腔體、蒸發管道、真空泵、晶振檢測儀和設置有線性蒸發源的副腔體，所述主腔體內設置有用于玻璃基片傳輸的基片傳輸機構，所述主腔體位于所述副腔體上方并通過一可開閉的擋板與所述副腔體隔開，所述小腔體位于所述主腔體上方并通過一閥門與所述主腔體隔開，所述蒸發管道的入口與所述線性蒸發源相接觸，所述蒸發管道的出口穿過所述擋板和主腔體朝向并臨近所述閥門；所述晶振測試儀包括晶振片和檢測機構，所述晶振片安裝在所述小腔體內且位于所述蒸發管道出口的上方，所述檢測機構測量晶振片本身的頻率變化并計算出接近實際鍍膜厚度的測量鍍膜厚度和相應的測量膜厚速率；所述真空泵通過兩條真空管道分別與主腔體和小腔體相連。

2.如權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于：所述晶振片正對所述蒸發管道出口。

3.如權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于：兩所述真空管道上均安裝有真空閘閥。

4.如權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于：所述檢測機構包括與所述晶振片相連的輸入單元、與所述輸入單元相連的比較處理單元、與所述比較處理單元相連的存儲單元，以及與所述比較處理單元輸出端相連的命令單元，所述命令單元的輸出端與所述擋板相連并用于控制所述擋板的開閉。

5.如權利要求4所述的真空鍍膜裝置，其特征在于：所述比較處理單元包括與所述輸入單元相連的比較單元、與所述比較單元相連的計算單元，以及與所述計算單元相連的校正單元。

6.如權利要求5所述的真空鍍膜裝置，其特征在于：所述校正單元包括距離校正單元和角度校正單元。