[實用新型]濺射陰極裝置有效
| 申請號: | 201420436010.5 | 申請日: | 2014-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN204080100U | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發明(設計)人: | 卞楷周 | 申請(專利權)人: | 上海和輝光電有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 李昕巍;鄭特強 |
| 地址: | 201500 上海市金山區*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 濺射 陰極 裝置 | ||
技術領域
本公開涉及一種鍍膜技術,尤其涉及一種濺射陰極裝置。
背景技術
現有G4.5代串式(Cluster)濺射鍍膜機的鍍膜方式是用一塊平面靶材濺射到基板上成膜。如圖1所示,平面金屬靶材12安裝在鍍膜機的陰極管11上,等離子體轟擊金屬靶材12碰撞出金屬原子,逸出的原子按照一定方向沉積在玻璃基板16上形成一定厚度的膜層。此種結構有較多缺陷:靶材四個角的刻蝕最快,利用率低;一塊靶材用完后必須更換靶材,設備維護保養(PM)的周期短;一個室內無法連續鍍多層膜;因易發小丘,一旦設備停止3分鐘以上則需要先跑測試片(Pre),來把靶材表面的雜質濺射到測試片上帶走,從而延長了工藝時間;并且成膜速率較低。
在所述背景技術部分公開的上述信息僅用于加強對本公開的背景的理解,因此它可以包括不構成對本領域普通技術人員已知的現有技術的信息。
實用新型內容
鑒于以上內容,本實用新型公開了一種濺射陰極裝置,能夠加快鍍膜速率并提高靶材的利用率。
本公開的額外方面和優點將部分地在下面的描述中闡述,并且部分地將從描述中變得顯然,或者可以通過本公開的實踐而習得。
本公開的一方面提供了一種濺射陰極裝置,用于向鍍膜基板的表面進行濺射,其包括分離的多個陰極部件,每個陰極部件均包括陰極管及設置在該陰極管外周的至少一個平面靶材,所述多個陰極部件被布置成每個陰極部件的其中一個平面靶材朝向鍍膜基板的表面,從而對該表面進行濺射。
一實施例中,每個陰極部件還包括支撐座和機架,陰極管安裝于支撐座上,機架與支撐座連接,并能夠帶動支撐座和陰極管旋轉,使得每個陰極部件的平面靶材選擇性的朝向鍍膜基板的表面。
一實施例中,陰極部件的數量為3個,包括第一陰極部件、第二陰極部件及第三陰極部件,第一陰極部件及第三陰極部件位于第二陰極部件的兩側,第一陰極部件與鍍膜基板的表面之間具有第一距離,第二陰極部件與鍍膜基板的表面之間具有第二距離,第三陰極部件與鍍膜基板的表面之間具有第三距離,其中,第一距離等于第三距離,且小于第二距離。
一實施例中,第二陰極部件的朝向鍍膜基板的表面的平面靶材是選擇性地與該表面平行,第一陰極部件的朝向鍍膜基板的表面的平面靶材以及第三陰極部件的朝向鍍膜基板的表面的平面靶材均以一預定角度來朝向該鍍膜基板的表面,且第一、第二及第三陰極部件相對于鍍膜基板的表面對稱設置。
一實施例中,第一、第二及第三陰極部件在鍍膜基板的表面上分別形成第一、第二及第三濺射區域,且第一濺射區域與第二濺射區域部分重疊,第二濺射區域與第三濺射區域部分重疊,且上述重疊部分面積相等。
一實施例中,每一陰極管外周均勻設置多個平面靶材。
一實施例中,每一陰極管垂直于其長度方向的截面為多邊形,且在與所述多邊形的每條邊對應的側面上均布置有一個平面靶材。
一實施例中,所述截面為三角形、四邊形或五邊形。
一實施例中,每個陰極部件還包括屏蔽罩,屏蔽罩固定連接于機架,其沿著陰極管的長度方向設置并圍繞所述陰極管,且該屏蔽罩具有開口,在機架帶動支撐座和陰極管旋轉的過程中,使每一陰極部件的平面靶材選擇性的朝向鍍膜基板的表面并從開口露出。
本公開使用具有多個陰極部件的分割式陰極結構,每個陰極部件上可以安裝有至少一個靶材,能夠借助多個平面靶材同時對鍍膜基板實施濺射,加快了鍍膜速率和提高了靶材利用率。
附圖說明
通過參照附圖詳細描述其示例實施方式,本公開的上述和其它特征及優點將變得更加明顯。
圖1是現有技術的濺射鍍膜機的鍍膜方式示意圖;
圖2是示意性圖示根據本公開實施例的濺射鍍膜機的鍍膜方式的俯視圖;
圖3是根據本公開實施例的單個陰極部件的結構側視圖;及
圖4是示意性圖示根據本公開實施例的重疊濺射區域的俯視圖。
具體實施方式
現在將參考附圖更全面地描述示例實施方式。然而,示例實施方式能夠以多種形式實施,且不應被理解為限于在此闡述的實施方式;相反,提供這些實施方式使得本公開將全面和完整,并將示例實施方式的構思全面地傳達給本領域的技術人員。在圖中,為了清晰,夸大了區域和層的厚度。在圖中相同的附圖標記表示相同或類似的結構,因而將省略它們的詳細描述。
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