[實(shí)用新型]一種激光聚焦裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420420491.0
• 申請日: 2014-07-28
• 公開（公告）號: CN204044435U
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郭敬為;蓋寶棟;桑鳳亭;金玉奇
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所
• 主分類號: G02B27/09
• 分類號: G02B27/09
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 21002
• 代理人: 馬馳

1.一種激光聚焦裝置，包括45度刮刀鏡一(1)、W形鏡(2)、凹面鏡一(3)、45度刮刀鏡二(4)、凹面鏡二(5)，其特征在于：凹面鏡一(3)與凹面鏡二(5)相對設(shè)置組成一共焦非穩(wěn)腔；45度刮刀鏡二(4)設(shè)置于共焦非穩(wěn)腔的光軸上，一輸入的準(zhǔn)直實(shí)心激光束經(jīng)45度刮刀鏡一(1)中心位置的通孔后照射到W形鏡(2)上，被W形鏡(2)整形為環(huán)形激光束后通過45度刮刀鏡一(1)和45度刮刀鏡二(4)的次第耦合反射進(jìn)入共焦非穩(wěn)腔，隨后光束在共焦非穩(wěn)腔內(nèi)往復(fù)聚焦通過焦點(diǎn)。?

2.按照權(quán)利要求1所述的激光聚焦裝置，其特征在于：W形鏡(2)為軸對稱結(jié)構(gòu)，軸向截面為W形，W形的三個交角均為直角，四條邊等長，于W形截面的上部形成一內(nèi)反射面。?

3.按照權(quán)利要求1所述的激光聚焦裝置，其特征在于：45度刮刀鏡一(1)、45度刮刀鏡二(4)均與其入射光路成45度角擺放，而其在光軸上的投影為圓環(huán)形。?

4.按照權(quán)利要求1所述的激光聚焦裝置，其特征在于：凹面鏡二(5)的中心區(qū)域具有對工作激光的高透射率，或者凹面鏡二(5)的中心設(shè)有小孔，即提供一個讓激光泄漏的路徑。?

5.按照權(quán)利要求1或4所述的激光聚焦裝置，其特征在于：?

透過45度刮刀鏡一(1)的光束半徑為r；W形鏡的直徑為2R；半徑為r的光束，經(jīng)過W形鏡整形為外徑為2R，內(nèi)徑為2(R-r)的環(huán)形光束；?

45度刮刀鏡一(1)、和45度刮刀鏡二(4)刮刀鏡的通光孔徑(內(nèi)孔在其光軸上的投影直徑)為2(R-r)；?

凹面鏡一(3)與凹面鏡二(5)具有不等的焦距，凹面鏡一(3)與凹面鏡二(5)的曲率半徑之比定義為縮束比M(M>1)，?

經(jīng)45度刮刀鏡二(4)反射的光束于凹面鏡一(3)上形成一空心光斑，空心光斑的外徑與光斑的空心處直徑之比為M，光束每往復(fù)傳播一周后光斑的外徑縮小為原來的1/M；M的值為R/(R-r)。?

6.按照權(quán)利要求5所述的激光聚焦裝置，其特征在于：凹面鏡二(5)在其中心半徑為z的區(qū)域具有對工作激光的高透射率，或者凹面鏡二(5)在其中心半徑為z的區(qū)域是小孔；理論上的最高光強(qiáng)可以比單次聚焦的強(qiáng)ln((R-r)/z)/ln(R/(R-r))倍。?