[實(shí)用新型]用于處理非鐵礦石的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420420323.1 | 申請日: | 2014-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN204325448U | 公開(公告)日: | 2015-05-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | M·J·薩耶;J·徐 | 申請(專利權(quán))人: | 氣體產(chǎn)品與化學(xué)公司 |
| 主分類號: | C22B3/02 | 分類號: | C22B3/02;B01D50/00;B01D53/00;B01D53/047;B01D53/22 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李強(qiáng);何逵游 |
| 地址: | 美國賓夕*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 處理 鐵礦石 裝置 | ||
1.一種用于處理非鐵礦石的裝置,包括:
高壓釜,其在流體方面連接到富氧進(jìn)料氣體的供應(yīng)和含水礦石漿料的供應(yīng)上;
第一排氣管道,其在流體方面連接到所述高壓釜上,以從所述高壓釜排出第一排氣流,所述第一排氣流比富氧進(jìn)料氣體具有更低的氧濃度;
洗滌子系統(tǒng),其在流體方面連接到所述第一排氣管道上,所述洗滌子系統(tǒng)操作地配置成從所述第一排氣流中去除二氧化硫,并產(chǎn)生通過第二排氣管道的第二排氣流,所述第二排氣流比所述第一排氣流具有更低的二氧化硫濃度;
第一分離子系統(tǒng),其操作地配置成從所述第二排氣流中去除二氧化碳和水,并產(chǎn)生通過第三管道的第三排氣流,所述第三排氣流比所述第二排氣流具有更低的二氧化碳含量和更低的二氧化碳和水濃度;
其中所述第三排氣管道在流體方面連接到選自下者組成的組中的至少一個:用于產(chǎn)生功率的膨脹機(jī)、第二分離子系統(tǒng),以及需要富氧的第三子系統(tǒng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述第二分離子系統(tǒng)操作地配置成從所述第三排氣流中去除氬,以產(chǎn)生通過第四排氣管道離開所述第二分離子系統(tǒng)的第四排氣流。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,所述第二分離子系統(tǒng)操作地配置成從所述第三排氣流中去除氮。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,所述第四排氣管道在流體方面連接到所述高壓釜上。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,所述高壓釜還包括多個基元,所述多個基元包括第一基元,與所述多個基元中的任何其它基元相比,所述第一基元包含具有更高氧濃度的礦石,并且其中所述第四排氣管道在流體方面連接到第一基元上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述洗滌子系統(tǒng)包括至少兩個可逆再生床。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述第一分離子系統(tǒng)包括具有至少一個隔膜的至少一個隔膜單元,所述至少一個隔膜對二氧化碳和水蒸氣比對氧的滲透性更高。
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