[實用新型]制備三氯氫硅的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420400497.1 | 申請日： | 2014-07-18 |
| 公開（公告）號： | CN204039071U | 公開（公告）日： | 2014-12-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 司文學(xué);嚴(yán)大洲;肖榮暉;湯傳斌;楊永亮 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國恩菲工程技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | C01B33/107 | 分類號： | C01B33/107 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 李志東 |
| 地址： | 100038*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 制備 三氯氫硅 裝置 | ||
1.一種制備三氯氫硅的裝置，其特征在于，包括：
精餾塔本體，所述精餾塔本體內(nèi)自上而下依次限定出精餾區(qū)、反應(yīng)區(qū)和蒸餾區(qū)；
四氯化硅入口，所述四氯化硅入口設(shè)置在所述精餾區(qū)和所述反應(yīng)區(qū)之間；
二氯二氫硅入口，所述二氯二氫硅入口設(shè)置在所述反應(yīng)區(qū)和所述蒸餾區(qū)之間；
重組分出口，所述重組分出口設(shè)置在所述蒸餾區(qū)的底部；
輕組分出口，所述輕組分出口設(shè)置在所述精餾區(qū)的頂部；
再沸器，所述再沸器具有液體入口和氣體出口，并且所述液體入口與所述重組分出口相連，所述氣體出口與所述蒸餾區(qū)相連；以及
冷凝器，所述冷凝器具有氣態(tài)輕組分入口、回流液出口和三氯氫硅出口，所述氣態(tài)輕組分入口與所述輕組分出口相連，所述回流液出口與所述精餾區(qū)相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備三氯氫硅的裝置，其特征在于，所述精餾區(qū)和所述蒸餾區(qū)內(nèi)件分別獨立地為篩板。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備三氯氫硅的裝置，其特征在于，所述精餾區(qū)的理論塔板數(shù)為15～18。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備三氯氫硅的裝置，其特征在于，所述蒸餾區(qū)的理論塔板數(shù)為5～8。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備三氯氫硅的裝置，其特征在于，所述反應(yīng)區(qū)包括催化劑層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備三氯氫硅的裝置，其特征在于，所述催化劑層高于2米。
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