[實用新型]制備三氯氫硅的裝置有效
| 申請號: | 201420400497.1 | 申請日: | 2014-07-18 |
| 公開(公告)號: | CN204039071U | 公開(公告)日: | 2014-12-24 |
| 發明(設計)人: | 司文學;嚴大洲;肖榮暉;湯傳斌;楊永亮 | 申請(專利權)人: | 中國恩菲工程技術有限公司 |
| 主分類號: | C01B33/107 | 分類號: | C01B33/107 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 李志東 |
| 地址: | 100038*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 三氯氫硅 裝置 | ||
1.一種制備三氯氫硅的裝置,其特征在于,包括:
精餾塔本體,所述精餾塔本體內自上而下依次限定出精餾區、反應區和蒸餾區;
四氯化硅入口,所述四氯化硅入口設置在所述精餾區和所述反應區之間;
二氯二氫硅入口,所述二氯二氫硅入口設置在所述反應區和所述蒸餾區之間;
重組分出口,所述重組分出口設置在所述蒸餾區的底部;
輕組分出口,所述輕組分出口設置在所述精餾區的頂部;
再沸器,所述再沸器具有液體入口和氣體出口,并且所述液體入口與所述重組分出口相連,所述氣體出口與所述蒸餾區相連;以及
冷凝器,所述冷凝器具有氣態輕組分入口、回流液出口和三氯氫硅出口,所述氣態輕組分入口與所述輕組分出口相連,所述回流液出口與所述精餾區相連。
2.根據權利要求1所述的制備三氯氫硅的裝置,其特征在于,所述精餾區和所述蒸餾區內件分別獨立地為篩板。
3.根據權利要求2所述的制備三氯氫硅的裝置,其特征在于,所述精餾區的理論塔板數為15~18。
4.根據權利要求2所述的制備三氯氫硅的裝置,其特征在于,所述蒸餾區的理論塔板數為5~8。
5.根據權利要求1所述的制備三氯氫硅的裝置,其特征在于,所述反應區包括催化劑層。
6.根據權利要求5所述的制備三氯氫硅的裝置,其特征在于,所述催化劑層高于2米。
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