[實(shí)用新型]石墨烯/聚吡咯雙層薄膜的制備裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420393657.4 | 申請日： | 2014-07-11 |
| 公開（公告）號： | CN203960353U | 公開（公告）日： | 2014-11-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 勵盼攀 | 申請（專利權(quán)）人： | 勵盼攀 |
| 主分類號： | C25B3/00 | 分類號： | C25B3/00;C01B31/04 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 315725 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 石墨 吡咯 雙層 薄膜 制備 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種石墨烯/聚吡咯雙層薄膜的制備裝置，其特征在于，所述裝置包括盛有吡咯單體和高氯酸鈉的混合溶液電解質(zhì)的容器、石墨烯條帶薄膜、鉑片、參比電極、以及電源，其中，所述石墨烯條帶薄膜懸浮于所述電解質(zhì)中，所述鉑片及參比電極分別固定在所述容器的內(nèi)壁上，所述電源的正極接在所述石墨烯條帶薄上；負(fù)極接在所述鉑片上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備裝置，其特征在于，所述參比電極可以采用Ag或AgCl。
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費(fèi)下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于勵盼攀，未經(jīng)勵盼攀許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420393657.4/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：具有制冷裝置的涼米機(jī)
- 下一篇：智能型地下水抽取及回灌裝置
