[實用新型]一種具有防擴層的外延結(jié)構(gòu)和發(fā)光二極管有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420392581.3 | 申請日: | 2014-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN204144308U | 公開(公告)日: | 2015-02-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林志偉;姜偉;陳凱軒;堯剛;張永;楊凱;白繼鋒;蔡建九;劉碧霞 | 申請(專利權(quán))人: | 廈門乾照光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/44 | 分類號: | H01L33/44;H01L33/00 |
| 代理公司: | 廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司 35203 | 代理人: | 廖吉保;唐紹烈 |
| 地址: | 361100 福建省廈*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 防擴層 外延 結(jié)構(gòu) 發(fā)光二極管 | ||
1.一種具有防擴層的外延結(jié)構(gòu),其特征在于:有源層一側(cè)依次為第一型限制層、第一型電流擴展層及第一電極,在有源層另一側(cè)依次形成第二型限制層、第二型電流擴展層、襯底及第二電極;在第二型電流擴展層與襯底之間形成防擴層,所述防擴層至少包括第二防擴層,第二防擴層被氧化為氧化物介質(zhì)膜,防擴層為無導(dǎo)電型摻雜的絕緣層。
2.如權(quán)利要求1所述的一種具有防擴層的外延結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第二防擴層由單層膜外延結(jié)構(gòu)組成,所述單層膜外延結(jié)構(gòu)為砷化物材料。
3.如權(quán)利要求1或2所述的一種具有防擴層的外延結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第二防擴層的厚度d滿足范圍80nm≤?d?≤350nm;且d滿足(2k+1)λ/(4n2),其中k≥0且為整數(shù),λ為需要反射光的波長,單位nm,n2為光的折射率。
4.如權(quán)利要求1所述的一種具有防擴層的外延結(jié)構(gòu),其特征在于:所述防擴層還包括第一防擴層,第一防擴層與第二型電流擴展層連接;第一防擴層為多層膜外延結(jié)構(gòu),第二防擴層由單層膜外延結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求4所述的一種具有防擴層的外延結(jié)構(gòu),其特征在于:第一防擴層形成布拉格反射層,低折射率材料層的膜厚度D1=(2k+1)λ/(4n1),其中k≥0且為整數(shù);高折射率材料層的膜厚度D2=(2k+1)λ/(4n2);其中k≥0且為整數(shù);λ為需要反射光的波長,單位nm;n1、n2為光的折射率,且n1<n2。
6.一種具有防擴層的發(fā)光二極管,其特征在于:有源層一側(cè)依次為第一型限制層、第一型電流擴展層及第一電極,在有源層另一側(cè)依次形成第二型限制層、第二型電流擴展層、襯底及第二電極;在第二型電流擴展層與襯底之間形成防擴層,所述防擴層至少包括第二防擴層,第二防擴層被氧化為氧化物介質(zhì)膜,防擴層為無導(dǎo)電型摻雜的絕緣層,在防擴層中形成導(dǎo)電通道,且在防擴層上形成金屬反射鏡,金屬反射鏡位于防擴層與襯底之間。
7.如權(quán)利要求6所述的一種具有防擴層的發(fā)光二極管,其特征在于:所述第二防擴層由單層膜外延結(jié)構(gòu)組成,所述單層膜外延結(jié)構(gòu)為砷化物材料。
8.如權(quán)利要求6或7所述的一種具有防擴層的發(fā)光二極管,其特征在于:所述第二防擴層的厚度d滿足范圍80nm≤?d?≤350nm;且d滿足(2k+1)λ/(4n2),其中k≥0且為整數(shù),λ為需要反射光的波長,單位nm,n2為光的折射率。
9.如權(quán)利要求6所述的一種具有防擴層的發(fā)光二極管,其特征在于:所述防擴層還包括第一防擴層,第一防擴層與第二型電流擴展層連接;第一防擴層為多層膜外延結(jié)構(gòu),第二防擴層由單層膜外延結(jié)構(gòu)。
10.如權(quán)利要求9所述的一種具有防擴層的發(fā)光二極管,其特征在于:第一防擴層形成布拉格反射層,低折射率材料層的膜厚度D1=(2k+1)λ/(4n1),其中k≥0且為整數(shù);高折射率材料層的膜厚度D2=(2k+1)λ/(4n2);其中k≥0且為整數(shù);λ為需要反射光的波長,單位nm;n1、n2為光的折射率,且n1<n2。
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