[實用新型]真空滅弧室電弧均布式電極結構有效
| 申請號： | 201420383372.2 | 申請日： | 2014-07-12 |
| 公開（公告）號： | CN204204733U | 公開（公告）日： | 2015-03-11 |
| 發明（設計）人： | 郎福成;楊書國;張建華 | 申請（專利權）人： | 國家電網公司;國網遼寧省電力有限公司電力科學研究院;錦州華光玻璃開關管有限公司 |
| 主分類號： | H01H33/664 | 分類號： | H01H33/664;H01H33/18;H01H9/44 |
| 代理公司： | 錦州遼西專利事務所 21225 | 代理人： | 李輝 |
| 地址： | 100031 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 滅弧室 電弧 均布式 電極 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空滅弧室電弧均布式電極結構，包括杯座，杯座底面焊接有導電桿，杯座上沿焊接有托盤，托盤上焊接有觸頭片，所述杯座側壁上設有多條螺旋槽，所述托盤和觸頭片上均設有與所述螺旋槽位置相對應的徑向槽，所述支撐盤上設有一條縱向的通槽，其特征在于：所述杯座內設置有環狀高導磁材料支撐盤，支撐盤上設有環狀槽，支撐盤表面與所述托盤焊接。
2.根據權利要求1所述的真空滅弧室電弧均布式電極結構，其特征在于：所述支撐盤的內環位于杯座中央，支撐盤的外環與所述杯座的內壁之間留有縫隙，縫隙寬度小于等于0.5mm。
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