[實用新型]一種低溫多晶硅薄膜晶體管陣列基板、顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420357600.9 | 申請日: | 2014-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN204029807U | 公開(公告)日: | 2014-12-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張家祥;姜曉輝;閻長江 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;張?zhí)焓?/td> |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 低溫 多晶 薄膜晶體管 陣列 顯示裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種陣列基板和顯示裝置。
背景技術(shù)
在顯示技術(shù)領(lǐng)域,非晶硅(α-Si)技術(shù)和低溫多晶硅(Low?Temperature?Poly-silicon,簡稱:LTPS)技術(shù)應(yīng)用較為廣泛。其中,隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,LTPS技術(shù)憑借其高效能和高清晰的特點,得到了越來越廣泛的應(yīng)用。
對于LTPS結(jié)構(gòu),漏電流的大小是一個重要指標。漏電流過大造成驅(qū)動電壓無法保持,會出現(xiàn)顯示方面的不良。目前,減小LTPS漏電流的方法是采用雙柵或多柵結(jié)構(gòu),例如圖1所示的雙柵結(jié)構(gòu)。雖然通過采用多個柵極,能夠有效降低溝道中的電場分布,減少熱載流子效應(yīng)并抑制泄漏電流。但是柵極一般采用導(dǎo)電性能較好的金屬材料,例如鉬或鉬鋁合金等,這些材料本身不透光。所以采用雙柵或多柵結(jié)構(gòu)不利于開口率的提高。
實用新型內(nèi)容
本實用新型提供一種低溫多晶硅薄膜晶體管陣列基板和顯示裝置,不但降低了漏電流的產(chǎn)生,還提高了面板的開口率。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供一種低溫多晶硅薄膜晶體管陣列基板,包括:基板;設(shè)置在所述基板上的多晶硅有源層;設(shè)置在所述有源層上的第一絕緣層;設(shè)置在所述第一絕緣層上的多個柵極和柵線;設(shè)置在所述柵極上的第二絕緣層;設(shè)置在所述第二絕緣層上的源極、漏極和數(shù)據(jù)線;以及與所述漏極電連接的像素電極;所述源極覆蓋所述多個柵極。
優(yōu)選的,所述陣列基板的有源層下方還設(shè)置有緩沖層。
優(yōu)選的,所述陣列基板的多個柵極為2至5個。
優(yōu)選的,所述陣列基板還包括與所述像素電極同層設(shè)置的公共電極。
優(yōu)選的,所述陣列基板還包括設(shè)置在所述像素電極上方的第三絕緣層,以及設(shè)置在所述第三絕緣層上的狹縫狀公共電極。
優(yōu)選的,所述陣列基板的第二絕緣層為樹脂材料。
優(yōu)選的,所述第二絕緣層的厚度為1.5-2.0μm。
本實用新型提供一種顯示裝置,包括上述的低溫多晶硅薄膜晶體管陣列基板。
本實用新型具有以下有益效果:將柵極多柵結(jié)構(gòu)集成在源極線正下方,不但提高了面板的開口率,還減小了漏電流。在柵極和源漏極之間增加介電常數(shù)小的樹脂層,避免了因柵極與源極信號線重疊產(chǎn)生的耦合電容,從而降低了漏電流的產(chǎn)生。
附圖說明
圖1是現(xiàn)有技術(shù)中雙柵結(jié)構(gòu)陣列基板的平面圖;
圖2A是本實用新型陣列基板第一實施例的平面圖;
圖2B是圖2A中A-B向的剖面圖;
圖3A是本實用新型陣列基板第一實施例第一次構(gòu)圖工藝的平面圖;
圖3B是圖2A中A-B向的剖面圖;
圖4A是本實用新型陣列基板第一實施例第二次構(gòu)圖工藝的平面圖;
圖4B是圖3A中A-B向的剖面圖;
圖5A是本實用新型陣列基板第一實施例第三次構(gòu)圖工藝的平面圖;
圖5B是圖4A中A-B向的剖面圖;
圖6A是本實用新型陣列基板第一實施例第四次構(gòu)圖工藝的平面圖;
圖6B是圖4A中A-B向的剖面圖;
圖7A是本實用新型陣列基板第一實施例第五次構(gòu)圖工藝的平面圖;
圖7B是圖6A中A-B向的剖面圖;
圖8A是本實用新型陣列基板第一實施例第六次構(gòu)圖工藝的平面圖;
圖8B是圖7A中A-B向的剖面圖;
圖9A是本實用新型陣列基板第一實施例第七次構(gòu)圖工藝的平面圖;
圖9B是圖8A中A-B向的剖面圖。
附圖標識說明:
1.基板;2.有源層;3.第一絕緣層;4.第二絕緣層;5.源極;6.漏極;7.柵極;8.像素電極;9.第三絕緣層;10.公共電極
具體實施方式
為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本實用新型的技術(shù)方案,下面結(jié)合附圖對本實用新型提供的陣列基板和顯示裝置進行詳細描述。
實施例一:
實施例一提供了一種低溫多晶硅薄膜晶體管陣列基板。如圖2A和2B所示,其中圖2A為實施例一陣列基板的俯視圖,圖2B為圖2A沿A-B方向的剖面圖。實施例一的陣列基板包括:基板1;設(shè)置在基板1上的多晶硅有源層2;設(shè)置在有源層2上的第一絕緣層3;設(shè)置在第一絕緣層3上的多個柵極7和柵線;設(shè)置在柵極7上的第二絕緣層4;設(shè)置在第二絕緣層4上的源極5、漏極6和數(shù)據(jù)線以及與所述漏極6電連接的像素電極8;所述源極5覆蓋所述多個柵極7。
如圖2B所示,所述多個柵極為3個。將柵極多柵結(jié)構(gòu)集成在源極線正下方,提高了面板的開口率。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





