[實用新型]吸附裝置及帶有該吸附裝置的表面處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420352256.4
• 申請日: 2014-06-27
• 公開（公告）號: CN204071932U
• 公開（公告）日: 2015-01-07
• 發(fā)明（設計）人: 周紅波
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州科沃斯商用機器人有限公司
• 主分類號: A47L1/02
• 分類號: A47L1/02
• 代理公司: 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11290
• 代理人: 姚垚;張榮彥

1.一種吸附裝置，包括吸盤本體，所述吸盤本體包括用于吸附在作業(yè)面上的第一腔室(11)，所述吸盤本體側(cè)部圍設在所述第一腔室(11)的外周，其特征在于，在所述吸盤本體側(cè)部內(nèi)開設有呈槽狀的第二腔室(12)，當所述吸盤本體處于吸附作業(yè)面狀態(tài)時，所述第一腔室(11)抽氣，所述第二腔室(12)放氣，使得所述吸盤本體側(cè)部的底面緊壓于作業(yè)面；當所述吸盤本體處于脫離作業(yè)面狀態(tài)時，所述第一腔室(11)放氣，所述第二腔室(12)抽氣，使得所述吸盤本體側(cè)部的底面離開作業(yè)面。?

2.如權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，所述第二腔室(12)的數(shù)量為一個，所述第二腔室(12)為設置在吸盤本體側(cè)部周向上的閉環(huán)。?

3.如權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，所述第二腔室(12)的數(shù)量為多個，所述多個第二腔室(12)均布于所述吸盤本體側(cè)部內(nèi)。?

4.如權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，所述吸附裝置還包括：抽真空裝置，所述第一腔室(11)和第二腔室(12)均通過一個二位五通電磁閥(2)與同一所述抽真空裝置連接。?

5.如權(quán)利要求4所述的吸附裝置，其特征在于，?

當所述吸附本體處于吸附作業(yè)面狀態(tài)時，所述第一腔室(11)通過二位五通電磁閥(2)連接抽真空裝置進行抽氣，所述第二腔室(12)過二位五通電磁閥(2)連通大氣；?

當所述吸盤本體處于脫離作業(yè)面狀態(tài)時，所述第二腔室通(12)過二位五通電磁閥(2)連接抽真空裝置進行抽氣，所述第一腔室(11)過二位五通電磁閥(2)連通大氣。?

6.如權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，所述吸附裝置還?包括：第一抽真空裝置和第二抽真空裝置，所述第一腔室(11)和第二腔室(12)分別連接第一抽真空裝置和第二抽真空裝置。?

7.如權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，所述第二腔室(12)的內(nèi)側(cè)壁和/或外側(cè)壁內(nèi)設有彈性支撐件(13)。?

8.如權(quán)利要求7所述的吸附裝置，其特征在于，所述的彈性支撐件(13)為螺旋金屬絲。?

9.如權(quán)利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，所述吸盤本體側(cè)部采用橡膠、硅膠。?

10.一種表面處理裝置，包括本體，以及設置在本體上的驅(qū)動單元、行走單元和吸附單元，所述驅(qū)動單元驅(qū)動行走單元行走，所述表面處理裝置通過所述吸附單元吸附于作業(yè)面，其特征在于，所述吸附單元采用權(quán)利要求1-6任一項所述的吸附裝置。?