[實用新型]一種改善半導體激光器光譜合束光束質量的裝置

有效

• 申請號: 201420352191.3
• 申請日: 2014-06-30
• 公開（公告）號: CN203942144U
• 公開（公告）日: 2014-11-12
• 發明（設計）人: 孟慧成;譚昊;余俊宏;杜維川;王昭;高松信;武德勇
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院應用電子學研究所
• 主分類號: H01S5/065
• 分類號: H01S5/065
• 代理公司: 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214
• 代理人: 卿誠;吳彥峰

1.一種改善半導體激光器光譜合束光束質量的裝置，其特征在于包括半導體激光器、準直鏡一、準直鏡二、空間變換透鏡、光柵、分光鏡、全反鏡一、全反鏡二、濾波器、聚焦鏡、耦合光纖；所述全反鏡一和全鏡二分別位于分光鏡的兩側，所述濾波器設置在分光鏡和全反鏡二之間；所述半導體激光器和光柵分別位于空間變換透鏡兩側的位置；所述準直鏡一和準直鏡二依次設置在半導體激光器與空間變換透鏡之間；所述半導體激光器發射出的激光經過光柵合束后由分光鏡分成兩束不同比例的光束，其中一束光垂直與全反鏡一、全反鏡二。

2.根據權利要求1所述的一種改善半導體激光器光譜合束光束質量的裝置，其特征在于所述半導體激光器為多個發光單元的空間線性排列，或為普通的CM?bar條、Mini?bar條，或為bar條在空間上排列成的線陣、疊陣。

3.根據權利要求2所述的一種改善半導體激光器光譜合束光束質量的裝置，其特征在于所述半導體激光器的前腔面鍍增透膜，前腔面得透過率大于99%。

4.根據權利要求1所述的一種改善半導體激光器光譜合束光束質量的裝置，其特征在于光柵包括但不限于反射、透射式光柵，且光柵具有高的損傷閾值。

5.根據權利要求1所述的一種改善半導體激光器光譜合束光束質量的裝置，其特征在于所述分光鏡的反射率：折射率在0.1~0.6之間。

6.根據權利要求1或5所述的一種改善半導體激光器光譜合束光束質量的裝置，其特征在于所述全反鏡一和全反鏡二的反射率大于99%。

7.根據權利要求1所述的一種改善半導體激光器光譜合束光束質量的裝置，其特征在于所述濾波器包括但不限于機械濾波系統和光學空間濾波系統。