[實用新型]一種多模干涉結構有效
| 申請號: | 201420342360.5 | 申請日: | 2014-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN203941309U | 公開(公告)日: | 2014-11-12 |
| 發明(設計)人: | 周治平;鄧清中 | 申請(專利權)人: | 北京大學 |
| 主分類號: | G02B6/122 | 分類號: | G02B6/122;G02F1/225 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
| 地址: | 100871 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 干涉 結構 | ||
1.一種多模干涉結構,包括輸入波導、多模區域和輸出波導,其特征在于:
所述多模區域為非對稱結構。
2.根據權利要求1所述的多模干涉結構,其特征在于:
所述多模區域由具有對稱結構的多模區域去除其中部分結構得到。
3.根據權利要求2所述的多模干涉結構,其特征在于:
所去除的部分結構的形狀為矩形。
4.根據權利要求1所述的多模干涉結構,其特征在于:
所述輸入波導和/或輸出波導為非良導體材料波導,或非良導體材料與金屬結合的表面等離子體波導。
5.根據權利要求4所述的多模干涉結構,其特征在于,所述表面等離子體波導為:
非良導體材料表面覆蓋一層金屬的表面等離子體波導。
6.根據權利要求4或5所述的多模干涉結構,其特征在于:
所述非良導體材料為電介質、半導體或有機物。
7.根據權利要求6所述的多模干涉結構,其特征在于:
所述電介質為二氧化硅、二氧化鈦或氧化鎵;
和/或,所述半導體為硅、鍺、氮化硅或三五族光電子化合物材料。
8.根據權利要求7所述的多模干涉結構,其特征在于:
所述三五族光電子化合物材料為磷化銦或氮化鎵。
9.根據權利要求5所述的多模干涉結構,其特征在于,所述表面等離子體波導為:
硅或二氧化硅表面覆蓋一層銀或金的表面等離子體波導。
10.根據權利要求3所述的多模干涉結構,其特征在于:
所述多模干涉結構為光功率分束器,所述光功率分束器通過改變所去除的矩形的尺寸來實現任意分束比。
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