[實用新型]硅片自動吹片裝置有效
| 申請號: | 201420341641.9 | 申請日: | 2014-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN204088275U | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發明(設計)人: | 陳彬;蔣科;李南明;魏秀萍 | 申請(專利權)人: | 上饒光電高科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 江西省專利事務所 36100 | 代理人: | 楊志宇 |
| 地址: | 334100 江*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硅片 自動 裝置 | ||
技術領域
?本實用新型涉太陽能電池制造領域,特別是涉及一種擴散設備R2D自動倒片機硅片擴散完成后的硅片自動吹片裝置。
背景技術
隨著現代工業的發展,全球能源危機和大氣污染問題日益突出,太陽能作為理想的可再生能源受到了許多國家的重視。由于不可再生能源的減少和環境污染的雙重壓力,使得光伏產業迅猛發展,太陽電池的發展也日新月異。磷擴散是太陽能電池片制作PN結所必須的一道工序,目前這道工序所采用的技術是熱擴散技術。擴散設備R2D自動倒片機硅片擴散完成后,背靠背硅片會吸附在一起,需要人員用氣槍將兩片連在一起的硅片吹散開。生產過程中,操作人員需停機才能進行吹片作業,這樣產能會減小。在手動吹片過程中,人員很難每次都精準地控制氣槍的氣壓及氣流量,不是吹不開就是會造成隱裂片甚至碎片;氣槍本身的氣流集中的特點也會對硅片形成沖擊造成隱裂片及碎片;吹片方法比如吹氣對準硅片的位置也會對吹片效果造成影響。
發明內容
本實用新型的目的是針對上述的不足和缺陷,提供一種硅片自動吹片裝置,能確保設備正常運行,降低碎片率,減小隱裂片,提高產能。
本實用新型通過以下技術方案來實現上述目的:
硅片自動吹片裝置,包括一個支架,支架上部固定連接風管,支架上設置有高度調節螺絲,風管通過氣管與節流閥連接,節流閥通過氣管與電磁閥連接,電磁閥與PLC中央控制單元電連接,真空傳感器和往復傳感器均與PLC中央控制單元電連接。
硅片自動吹片裝置,其中:風管采用均勻分布打孔的不銹鋼管,便于氣流分散,減小對硅片沖擊力。
硅片自動吹片裝置,其中:調節高度調節螺絲可以調節風管位置,適用于不同類型的硅片。?
本實用新型的優點是:增加自動吹片,能夠有效地解決因人員,氣槍,及吹片方法不穩定因素所帶來的問題。確保設備正常運行,減少因人員因素吹片造成的碎片及隱裂片,降低碎片率;避免因氣槍氣壓沖擊對硅片造成的損傷,減少隱裂片;減少生產過程中人員吹片設備的待機時間,提高產能。而且能減少員工工作負擔。
附圖說明
圖1是本實用新型硅片自動吹片裝置的結構示意圖。
附圖標記:支架1、風管2、高度調節螺絲3、節流閥4、電磁閥5、PLC中央控制單元6、真空傳感器7、往復傳感器8、氣管9、氣管10。
具體實施方式
實施例1、硅片自動吹片裝置,包括一個支架1,支架1上部固定連接風管2,支架1上設置有高度調節螺絲3,風管2通過氣管10與節流閥4連接,節流閥4通過氣管9與電磁閥5連接,電磁閥5與PLC中央控制單元6電連接,真空傳感器7和往復傳感器8均與PLC中央控制單元6電連接。
實施例2、硅片自動吹片裝置,其中:風管2采用均勻分布打孔的不銹鋼管,便于氣流分散,減小對硅片沖擊力。
實施例3、硅片自動吹片裝置,其中:調節高度調節螺絲3可以調節風管2位置,適用于不同類型的硅片。
本實用新型硅片自動吹片裝置的工作原理:
真空傳感器7和往復傳感器8收集信號,并把信號傳送到PLC中央控制單元6,PLC中央控制單元6處理信號后發出信號到電磁閥5,進而控制節流閥4,完成吹片作業。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





