[實用新型]高純旋轉鉻靶的制作裝置有效
| 申請號： | 201420335187.6 | 申請日： | 2014-06-20 |
| 公開（公告）號： | CN203944839U | 公開（公告）日： | 2014-11-19 |
| 發明（設計）人： | 胡習光;秦國強;常金永;張志祥 | 申請（專利權）人： | 江陰恩特萊特鍍膜科技有限公司 |
| 主分類號： | B22F3/14 | 分類號： | B22F3/14;C23C14/35 |
| 代理公司： | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 殷紅梅;劉海 |
| 地址： | 214437 江蘇省無錫市江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 高純 旋轉 制作 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種高純旋轉鉻靶的制作裝置，其特征是：包括外套管（4）和中空的襯管（1），外套管（4）設置在襯管（1）外圍，在外套管（4）和襯管（1）之間形成圓環形空腔（3），該圓環形空腔（3）的上下端分別采用端頭圓環（5）密封，在上部的端頭圓環（5）上設置灌粉管（2），灌粉管（2）與圓環形空腔（3）連通。
2.如權利要求1所述的純旋轉鉻靶的制作裝置，其特征是：所述襯管（1）為中空結構。
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