[實用新型]一種制備旋轉高純硅靶的燒結爐有效
| 申請號： | 201420334821.4 | 申請日： | 2014-06-20 |
| 公開（公告）號： | CN203947155U | 公開（公告）日： | 2014-11-19 |
| 發明（設計）人： | 胡習光;秦國強;常金永;張志祥 | 申請（專利權）人： | 江陰恩特萊特鍍膜科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C30B29/06;C30B28/06;C30B11/00 |
| 代理公司： | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 殷紅梅 |
| 地址： | 214437 江蘇省無錫市江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 制備 旋轉 高純 燒結爐 | ||
【權利要求書】：
1.一種制備旋轉高純硅靶的燒結爐，其特征是：包括爐蓋（1），爐蓋（1）與中空的爐殼（2）相連，爐殼（2）內部設置石墨熱屏障（17），爐殼（2）與石墨熱屏障（17）之間設置耐高溫巖棉（16）；中空的爐殼（2）內部設置有冷卻水，爐殼（2）一側設置有第一進水管（14），另一側設置第一出水管（3）；
石墨熱屏障（17）內設置有環形的石墨發熱體（6），石墨發熱體（6）內部設置耐高溫墊塊（7），耐高溫墊塊（7）位于托盤（8）上；托盤（8）與自動升降裝置（10）相連；
爐殼（2）中部一側設置有進氣管（18）、第二進水管（13）和抽真空出氣管（12），另一側設置爐門（15），爐殼（2）上還設置有第二出水管（9）；爐殼（2）下端還設置爐腿（4）。
2.如權利要求1所述制備旋轉高純硅靶的燒結爐，其特征是：爐蓋（1）上還設置熱電偶（5），熱電偶（5）位于環形的石墨發熱體（6）形成的空腔內。
3.如權利要求1所述制備旋轉高純硅靶的燒結爐，其特征是：所述石墨發熱體（6）設置于耐熱磚塊上，耐高溫巖棉（16）通過耐熱磚塊密封。
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