[實用新型]一種三氯氫硅合成爐有效
| 申請號: | 201420324903.0 | 申請日: | 2014-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN203922739U | 公開(公告)日: | 2014-11-05 |
| 發明(設計)人: | 羅周;劉漢元;李斌;甘居富 | 申請(專利權)人: | 四川永祥多晶硅有限公司 |
| 主分類號: | C01B33/107 | 分類號: | C01B33/107 |
| 代理公司: | 成都天嘉專利事務所(普通合伙) 51211 | 代理人: | 冉鵬程 |
| 地址: | 614899 四川省*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 三氯氫硅 合成 | ||
1.一種三氯氫硅合成爐,包括反應段、氣體分布板和下封頭,下封頭連接在反應段上,氣體分布板連接在下封頭上,其特征在于:所述氣體分布板上設置有噴嘴,噴嘴位于下封頭內。
2.根據權利要求書1所述的一種三氯氫硅合成爐,其特征在于:所述反應段的上端直徑大于下端直徑,下封頭連接在反應段的下端上,氣體分布板的直徑與下端直徑相等。
3.根據權利要求書1或2所述的一種三氯氫硅合成爐,其特征在于:所述氣體分布板上設置有多個等徑螺孔,噴嘴通過螺紋連接在螺孔上。
4.根據權利要求書1所述的一種三氯氫硅合成爐,其特征在于:所述噴嘴中心設置有通氣孔,通氣孔為階梯孔,通氣孔的進氣口口徑小于出氣口口徑,出氣口與螺孔連通。
5.根據權利要求書1、2或4所述的一種三氯氫硅合成爐,其特征在于:所述下封頭用法蘭連接在反應段上,氣體分布板連接在法蘭上,氣體分布板與法蘭之間設置有石棉墊片。
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