[實(shí)用新型]一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板、顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420310692.5
• 申請(qǐng)日: 2014-06-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN204067363U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-12-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋瑩瑩;崔穎
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/32
• 分類號(hào): H01L27/32
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 柴亮;張?zhí)焓?/td>

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板、顯示裝置。

背景技術(shù)

在有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中，環(huán)境光會(huì)在發(fā)光層和金屬電極表面上產(chǎn)生強(qiáng)烈反射，在外界背景光較強(qiáng)的條件下，這部分反射光進(jìn)入觀察者的眼睛會(huì)使顯示器件的對(duì)比度明顯地降低，影響顯示器的顯示效果。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中頂發(fā)射型有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖，包括相對(duì)設(shè)置的第一基板1和第二基板11；所述第一基板1包括多個(gè)像素區(qū)域12和位于所述像素區(qū)域12之間的像素界定區(qū)域13；

像素區(qū)域12包括依次設(shè)置在第一基板1上的陽(yáng)極2、有機(jī)發(fā)光功能層14、陰極8，有機(jī)發(fā)光功能層14發(fā)出的光從第二基板11射出(圖1中箭頭所示)；

像素界定區(qū)域13包括設(shè)置在第一基板1上像素界定層6。

陰極8覆蓋有機(jī)發(fā)光功能層14和像素界定層6，在陰極8上設(shè)有緩沖層9，該緩沖層9與第二基板11接觸。

通常，有機(jī)發(fā)光功能層14包括與陽(yáng)極2連接的第一功能層3(通常包括空穴注入層和電子傳輸層)，用于發(fā)光的發(fā)光層4，與陰極連接的第二功能層5(通常包括電子傳輸層和電子注入層)。

外界環(huán)境光入射進(jìn)入第二基板11后會(huì)在有機(jī)發(fā)光功能層14和陰極8的表面產(chǎn)生強(qiáng)烈反射，在外界環(huán)境光較強(qiáng)的條件下，這部分反射光進(jìn)入觀察者的眼睛會(huì)使顯示器件的對(duì)比度明顯地降低，影響顯示器的顯示效果。

現(xiàn)有技術(shù)中采用在顯示器件表面上貼上1/4波長(zhǎng)偏光片降低有機(jī)發(fā)光二極管器件表面的反射，用這種方法可以提高對(duì)比度，但是1/4波長(zhǎng)偏光片吸收或損耗約60％的發(fā)光，且偏光片的成本較高。

其次，現(xiàn)有技術(shù)中還有在有機(jī)發(fā)光顯示裝置中增加消光干涉層的技術(shù)，這樣也能提高對(duì)比度，但是要考慮消光干涉層與其他層的最高占有軌道(Highest?Occupied?Molecular?Orbital)和最低未占有軌道(Lowest?Unoccupied?Molecular?Orbital)能級(jí)的匹配關(guān)系。

再次，現(xiàn)有技術(shù)中還有在顯示器件中增加一層光吸收層的技術(shù)，可以使環(huán)境光入射顯示器件內(nèi)部后反射減少，但同時(shí)也部分地吸收了有機(jī)發(fā)光二極管裝置發(fā)出的光，因此對(duì)顯示裝置對(duì)比度的改善并不明顯。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是解決現(xiàn)有技術(shù)的有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板顯示面板和顯示裝置中由于環(huán)境光的反射導(dǎo)致顯示對(duì)比度降低的問(wèn)題，提供一種能提高對(duì)比度的顯示面板和顯示裝置。

解決本實(shí)用新型技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板，包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板；所述第一基板包括多個(gè)像素區(qū)域和位于所述像素區(qū)域之間的像素界定區(qū)域；

所述像素區(qū)域包括設(shè)置在所述第一基板上的陽(yáng)極、有機(jī)發(fā)光功能層和陰極；

所述像素界定區(qū)域設(shè)置有像素界定層；

還包括：

與所述像素界定層朝向第二基板的端面位置相匹配的光吸收層，所述光吸收層用于吸收照射光線；

與所述光吸收層相匹配設(shè)置的光線聚集單元，用于將外界入射在光線聚集單元的光線聚集后照射在所述光吸收層上，以通過(guò)所述光吸收層吸收。

優(yōu)選的是，所述光吸收層設(shè)置于所述像素界定層朝向所述第二基板的表面。

優(yōu)選的是，所述的光線聚集單元為平面凸透鏡；所述平面凸透鏡包括接受外界入射光的平面部和聚集光線的凸起部；所述的平面凸透鏡的凸起部朝向所述的光吸收層；所述的平面部與所述光吸收層所在的平面平行。

優(yōu)選的是，所述的平面凸透鏡為多個(gè)且均勻分布于對(duì)應(yīng)所述光吸收層所在的區(qū)域。

優(yōu)選的是，所述的陰極覆蓋所述有機(jī)發(fā)光功能層和所述光吸收層。

優(yōu)選的是，在所述陰極上還設(shè)有緩沖層，所述平面凸透鏡的平面部與所述第二基板接觸，所述平面凸透鏡的凸起部位于所述的緩沖層中。

優(yōu)選的是，所述的陰極覆蓋所述有機(jī)發(fā)光功能層和所述像素界定層朝向所述第二基板的端面。

優(yōu)選的是，所述光吸收層設(shè)置于所述陰極上。

優(yōu)選的是，在所述陰極上和光吸收層上還設(shè)有緩沖層，所述平面凸透鏡的平面部與所述第二基板接觸，所述平面凸透鏡的凸起部位于所述的緩沖層中。

優(yōu)選的是，所述的光線聚集單元的材料的折射率大于所述的緩沖層的材料的折射率。

優(yōu)選的是，所述的光線聚集單元的材料的折射率為1.6-2.0，所述的緩沖層的材料的折射率為1.4-1.6。

優(yōu)選的是，所述的平面凸透鏡的平面部的直徑范圍為1-5μm，突起部的高度范圍為5-7μm。