[實用新型]干式自動覆膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420265649.1
• 申請日: 2014-05-23
• 公開（公告）號: CN203888326U
• 公開（公告）日: 2014-10-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫坑法;陳小明;董德林;王仲文;伍洽盼;童小祥;陶湘柳;沈國東;孫燊;李曉波
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州康發(fā)塑料機械有限公司
• 主分類號: B32B37/00
• 分類號: B32B37/00
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務(wù)所有限公司 33241
• 代理人: 林君勇

1.一種干式自動覆膜裝置，其特征在于：包括底座（1），所述的底座（1）的上部設(shè)有與底座（1）相固定的操作支架（2），所述的底座（1）的上部設(shè)有下滾筒支架（3），所述的操作支架（2）的上部設(shè)有上滾筒支架（4），所述的下滾筒支架（3）中設(shè)有下滾筒（5），所述的上滾筒支架（4）中設(shè)有上滾筒（6），所述的下滾筒（5）與上滾筒（6）間的操作支架（2）上設(shè)有膠輥（7）和左鋁托輥（8），所述的左鋁托輥（8）位于膠輥（7）的外側(cè)，所述的操作支架（2）的右側(cè)端設(shè)有與左鋁托輥（8）相對稱分布的右鋁托輥（9），所述的上滾筒（6）與下滾筒（5）呈上下錯位分布，所述的右鋁托輥（9）、上滾筒（6）、膠輥（7）、左鋁托輥（8）和下滾筒（5）呈匹配分布。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式自動覆膜裝置，其特征在于：所述的上滾筒支架（4）與上滾筒（6）間、下滾筒支架（3）與下滾筒（5）間通過固定手輪（10）相調(diào)整定位，所述的下滾筒支架（3）與底座（1）間、上滾筒支架（4）與操作支架（2）間通過調(diào)整搖臂（11）相調(diào)整定位，所述的膠輥（7）隨氣缸（12）上下位移，所述的氣缸（12）設(shè)在操作支架（2）上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的干式自動覆膜裝置，其特征在于：所述的左鋁托輥（8）和右鋁托輥（9）分別設(shè)有二根，二根左鋁托輥（8）呈上下垂直分布，二根右鋁托輥（9）呈上下垂直分布。