[實用新型]一種三維測量系統有效
| 申請號: | 201420243248.6 | 申請日: | 2014-05-08 |
| 公開(公告)號: | CN203824531U | 公開(公告)日: | 2014-09-10 |
| 發明(設計)人: | 秦品樂;王運龍;孟賢玉 | 申請(專利權)人: | 青島三友智控科技有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/25 | 分類號: | G01B11/25 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 266555 山東省青島*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 三維 測量 系統 | ||
1.一種三維測量系統,其特征在于,包括:
雙目相機:其功能為采用二維標定靶對其進行標定,得到相機之間的空間外參數及兩個相機各自的內參數,從而為三維重構提供必要的參數;
光柵干涉投影裝置:用以將光影投射到光柵上產生干涉條紋后投射于被測物;
所述光柵干涉投影裝置包括激光器、第一分光鏡、第二分光鏡、光柵、兩個透鏡組成的透鏡組、第一棱鏡、第二棱鏡、第一反射鏡及第二反射鏡;激光器通過分光鏡被分為兩路,經過光柵后分別經過兩個透鏡投射于第一棱鏡、第二棱鏡后相干涉形成干涉條紋,然后投射到第一反射鏡后,經過反射后再投射到第二反射鏡,再次反射后投射到被測的部件上。
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