[實用新型]一種平面磁控濺射鍍膜平移機構

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420241960.2
• 申請日: 2014-05-12
• 公開（公告）號: CN203866381U
• 公開（公告）日: 2014-10-08
• 發(fā)明（設計）人: 張兵;羅德華;王偉;邵家滿;王寅
• 申請（專利權）人: 蕪湖長信科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產(chǎn)權代理有限公司 34107
• 代理人: 朱圣榮

1.一種平面磁控濺射鍍膜平移機構，包括呈U型的輸送基片架(9)的輸送軌道(1)、將輸送軌道(1)分隔成兩部分的隔墻(2)，所述隔墻(2)一側為對玻璃進行鍍膜的真空室(3)，其特征在于，所述U型軌道的彎折點在真空室(3)內，U型軌道的彎折點為將基片架(9)從U型軌道一側輸送到另一側的平移機構(4)，所述平移機構(4)包括：

連接U型軌道兩側的架體(5)；

設置在所述架體(5)上的導軌(6)；

能通過導軌(6)在U型軌道兩側來回滑動的可支撐基片架(9)的托板(7)；

驅動托板(7)從U型軌道兩側來回滑動的驅動機構(8)。

2.如權利要求1所述的平面磁控濺射鍍膜平移機構，其特征在于，所述托板(7)上設有與導軌(6)相適配的滑塊(71)。

3.如權利要求1或2所述的平面磁控濺射鍍膜平移機構，其特征在于，所述驅動機構(8)為齒輪齒條機構，所述齒條(82)固定安裝在托板(7)下端，所述齒輪(81)通過驅動軸安裝在架體(5)上的軸承座上。

4.如權利要求3所述的平面磁控濺射鍍膜平移機構，其特征在于，所述滑塊(71)設置在托板(7)的兩端，所述架體(5)上設有兩根導軌(6)。