[實(shí)用新型]一種具有獨(dú)立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動(dòng)靶座

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420237880.X
• 申請(qǐng)日: 2014-05-12
• 公開（公告）號(hào): CN203820882U
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙宏清;劉曉文
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東禹城漢能光伏有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 濟(jì)南泉城專利商標(biāo)事務(wù)所 37218
• 代理人: 李桂存

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于真空鍍膜領(lǐng)域，特別涉及一種具有獨(dú)立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動(dòng)靶座。

背景技術(shù)

在太陽能電池中，薄膜電池具有更強(qiáng)的弱光效應(yīng)，廉價(jià)的制備材料，更佳的視覺效果及易于大規(guī)模連續(xù)化生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)，在光伏建筑一體化（BIPV）中具有廣闊的發(fā)展前景。對(duì)于Si基薄膜電池來說，背電極的導(dǎo)電性能及膜層結(jié)構(gòu)在整個(gè)電池的工藝中處于一個(gè)非常重要的地位，Si基薄膜電池背電極利用磁控濺射技術(shù)（magnetron?sputtering，簡稱PVD）制備，在濺射過程中，高能粒子撞擊具有高純度的靶材固體平板，通過物理過程撞擊出原子，這些被撞擊出來的原子穿過真空，最后沉積在芯片上。

現(xiàn)有工藝中常用的濺射靶材一般為平面長方形結(jié)構(gòu)，且靶材表面為光滑的平面結(jié)構(gòu)。當(dāng)該靶材被多次使用之后，其表面將不再是平整的結(jié)構(gòu)，而是形成了一個(gè)V狀的凹坑，這是由于濺射過程中高能粒子撞擊靶材表面的角度、頻率及能量等有所不同而導(dǎo)致，如何能夠盡可能的消耗靶材，提高靶材利用率，行業(yè)內(nèi)一直沒有給出非常有效的措施。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是如何克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，提供一種具有獨(dú)立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動(dòng)靶座。本一種具有獨(dú)立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動(dòng)靶座通過靶座冷卻管路與磁鋼組件分離的方法，使磁鋼組件在靶材上方通過微調(diào)裝置，達(dá)到移動(dòng)靶座磁場的目的，使靶材消耗從V型結(jié)構(gòu)變成U型結(jié)構(gòu)，方便快捷的提高靶材利用率。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的：

本一種具有獨(dú)立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動(dòng)靶座，包括靶基板，位于靶基板下方的磁鋼組件，位于磁鋼組件下方的靶材，包括對(duì)所述磁鋼組件起到調(diào)節(jié)移動(dòng)作用的微調(diào)裝置，該微調(diào)裝置通過連接座與磁鋼組件相連，所述磁鋼組件外圍設(shè)有U型冷卻基座，所述U型冷卻基座內(nèi)嵌入U(xiǎn)型冷卻水管，所述U型冷卻基座底部安裝靶材。

如此設(shè)計(jì)，通過微調(diào)裝置對(duì)磁鋼組件起到調(diào)節(jié)移動(dòng)作用，達(dá)到改變磁場位置的目的；另外，冷卻基座采用U型結(jié)構(gòu)可以更好的完成腔室的密封性能，并提供磁鋼組件足夠的移動(dòng)空間；且由U型冷卻基座和U型冷卻水管組成的冷卻水系統(tǒng)是獨(dú)立設(shè)計(jì)的，通過單獨(dú)用軟質(zhì)U型冷卻水管連接U型冷卻基座，一端進(jìn)水，一端排水，即能滿足冷卻需求，又能避免傳統(tǒng)靶座磁鋼組件移動(dòng)受冷卻水管路影響的限制。

作為優(yōu)化，所述微調(diào)裝置包括定位左檔、可滑動(dòng)中檔、定位右檔，三檔中間間隔以靶座磁場暗區(qū)為基礎(chǔ)，可滑動(dòng)中檔通過螺母連接微調(diào)絲桿，微調(diào)絲桿左端部通過支撐軸承固定于定位左檔上，微調(diào)絲桿右端部通過支撐軸承固定于定位右檔上，微調(diào)絲桿端部邊緣設(shè)有旋轉(zhuǎn)手柄，可滑動(dòng)中檔通過連接座與磁鋼組件相連。如此設(shè)計(jì)，通過轉(zhuǎn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)手柄，帶動(dòng)可滑動(dòng)中檔左右移動(dòng)，從而帶動(dòng)磁鋼組件左右移動(dòng)，達(dá)到改變磁場位置的目的，另外，中間間隔以靶座磁場暗區(qū)為基礎(chǔ)，可以更好的濺射磁場暗區(qū)所剩下的靶材，達(dá)到最大利用靶材的目的。

作為優(yōu)化，所述磁鋼組件和U型冷卻基座之間設(shè)有滾珠。如此設(shè)計(jì)，通過將磁鋼組件與冷卻基座采用滾珠相隔，即可以達(dá)到磁鋼組件到靶材距離的一致性，又可以讓磁鋼組件在U型冷卻基座上平滑移動(dòng)，不產(chǎn)生磨損。

作為優(yōu)化，所述磁鋼組件與微調(diào)裝置均采用剛性結(jié)構(gòu)，所述微調(diào)裝置上還設(shè)有當(dāng)磁鋼組件位置調(diào)整后，將磁鋼組件固定在調(diào)整后位置上的鎖緊裝置。如此設(shè)計(jì)，使用方便。

作為優(yōu)化，所述U型冷卻基座通過ORING密封鎖緊在靶基板的兩端，中間采用鐵氟龍材質(zhì)隔板相隔，所述U型冷卻基座采用銅背板材質(zhì)密封。如此設(shè)計(jì)，可以節(jié)約空間，并且達(dá)到與陰極絕緣的目的。

作為優(yōu)化，所述U型冷卻基座四周設(shè)有與靶基板相連的屏蔽罩。

作為優(yōu)化，所述U型冷卻基座底部兩端通過壓條卡設(shè)靶材。

本實(shí)用新型一種具有獨(dú)立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動(dòng)靶座的有益效果是：

1、通過靶座冷卻管路與磁鋼組件分離的方法，使磁鋼組件在靶材上方通過微調(diào)裝置，達(dá)到移動(dòng)靶座磁場的目的，使靶材消耗從V型結(jié)構(gòu)變成U型結(jié)構(gòu)，方便快捷的提高靶材利用率。

2、通過單獨(dú)用U型冷卻水管連接U型冷卻基座，一端進(jìn)水，一端排水，即能滿足冷卻需求，又能避免傳統(tǒng)靶座磁鋼組件移動(dòng)受冷卻水管路影響的限制，具有較好的實(shí)際應(yīng)用價(jià)值和推廣價(jià)值。

附圖說明

下面結(jié)合附圖對(duì)本一種具有獨(dú)立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動(dòng)靶座作進(jìn)一步說明：

圖1是本一種具有獨(dú)立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動(dòng)靶座的結(jié)構(gòu)示意圖。?