[實用新型]一種熔料密封裝置

有效

• 申請號: 201420237276.7
• 申請日: 2014-05-09
• 公開（公告）號: CN203910867U
• 公開（公告）日: 2014-10-29
• 發明（設計）人: 吳偉力;汪峰;張玄
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 蘇培華

1.一種熔料密封裝置，包括工作平臺及激光輻射構件，所述工作平臺用以放置第一母基板以及位于第一母基板上方的第二母基板，第一、第二母基板之間設有熔料區域，所述熔料區域設有用以將第一、第二母基板粘合封閉在一起的熔料，所述激光輻射構件用以激光輻射所述第一、第二母基板之間熔料，所述第一母基板包括多個第一基板，所述第二母基板包括多個第二基板，其特征在于：所述熔料密封裝置還包括位于工作平臺和激光輻射構件之間的掩膜，所述掩膜位于第二母基板上方，所述掩膜與所述工作平臺相互磁性吸引用以壓緊所述第一、第二母基板之間的熔料。

2.根據權利要求1所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述掩膜為磁性掩膜，所述工作平臺為鐵質工作平臺。

3.根據權利要求2所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述磁性掩膜設有與所述熔料區域對應的第一非磁性區域帶以及與所述熔料區域周界對應的磁性區域。

4.根據權利要求3所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述熔料區域和第一非磁性區域帶均為中空回字形，第一非磁性區域帶的帶寬大于熔料區域的帶寬。

5.根據權利要求2所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述相鄰兩個第二基板之間設有臨接部，所述磁性掩膜設有與所述臨接部對應的第二非磁性區域帶。

6.根據權利要求1所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述工作平臺為磁性工作平臺，所述掩膜為鐵質掩膜。

7.根據權利要求6所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述磁性工作平臺內安裝有磁鐵，所述磁鐵包括與所述熔料區域周界對應的第一磁鐵和第二磁鐵，所述第二磁鐵位于第一磁鐵外圍，第一、第二磁鐵之間有封閉狀間距。

8.根據權利要求7所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述封閉狀間距與熔料區域均為中空回字形，所述封閉狀間距的帶寬大于熔料區域的帶寬。

9.根據權利要求1所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述掩膜為磁性掩膜，所述工作平臺為磁性工作平臺。

10.根據權利要求9所述的熔料密封裝置，其特征在于：磁性掩膜和磁性工作平臺均設有磁鐵，所述磁性掩膜與磁性工作平臺異性相吸。