[實用新型]一種新型PECVD上鍍膜載板有效
| 申請號: | 201420236062.8 | 申請日: | 2014-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN203820885U | 公開(公告)日: | 2014-09-10 |
| 發明(設計)人: | 武同樂;張金偉;陳哲 | 申請(專利權)人: | 英利能源(中國)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;H01L21/673 |
| 代理公司: | 石家莊國為知識產權事務所 13120 | 代理人: | 陸林生 |
| 地址: | 071051 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 pecvd 鍍膜 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種新型PECVD上鍍膜載板,屬于太陽能光伏電池制造技術領域。
背景技術
太陽電池經過制絨、擴散及PECVD?等工序后,已經制成PN?結,可以在光照下產生電流,為了將產生的電流導出,需要在電池表面上制作正、負兩個電極。PECVD?工序是在硅片表面鍍SiNx(?或AlOx/a-Si,?等),?而硅片需要特制的載板將硅片放置在載板上再送入PECVD機臺,使用氮化硅氣體對硅片表面進行上鍍膜。
現有的太陽能電池載板式PECVD?鍍膜設備,均采用石墨材質的載板,載板厚度較大。目前,在太陽能板制造企業中,載板的邊緣棱角分明,厚度一般在5.0±0.2毫米,由于所使用的硅片厚度為0.2毫米,當使用此種上鍍膜載板載入電池片時,由于載板厚度比電池片厚,當使用載板載入硅片進行鍍膜時緊挨硅片邊緣的載板由于厚度較大會有部分氮化硅沉積受影響而導致沉積的不均勻,使緊貼鍍膜載板的電池片邊緣因沉積的氮化硅厚度較薄而變紅,從而出現色差現象,影響電池外觀,降低了電池片良率和轉換效率。???
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題是提供一種新型PECVD上鍍膜載板,該載板對其邊緣結構進行優化處理,在保證載板承載電池片的前提下,可以減少電池片與載板的接觸范圍,從而減少電池片的紅邊現象,能夠解決電池片片內色差問題。
為解決上述技術問題,本實用新型所采取的技術方案是:一種新型PECVD上鍍膜載板,包括載板本體,所述載板本體為石墨材質的框架形結構,其特征在于所述載板本體的邊框內沿均為斜面,邊框外沿保持原有的截面,載板本體的內角處均設有卡角,所述卡角為1/4的圓弧板,其兩個端面與斜面的下端平齊。
對上述結構作進一步說明,處于所述載板本體內部的框架,其表面為兩個對稱的斜面,兩個斜面的上端重合。
對上述結構作進一步說明,所述卡角的兩個直角邊長相等,并且直角邊與內框的長度比例為:1/10~1/15。
對上述結構作進一步說明,所述斜面的垂直方向高度與所承載的硅片高度相同,斜面的水平方向寬度為原框架寬度的1/2。
對上述結構作進一步說明,所述圓弧板的直角邊向弧形邊中線過渡中,其板的厚度逐漸減小,使弧形板形成中線處的厚度小于直線邊處厚度。
采用上述技術方案所產生的有益效果在于:本實用新型中載板主體中的棱角進行修改,對其進行平面化處理,用平面代替棱角,可以減小PE上鍍膜載板邊緣的厚度,這樣可以減少電池片邊緣附近的石墨載板對氮化硅沉積的影響,讓電池片充分且均勻的沉積氮化硅,均勻鍍膜,從而改善電池片邊緣紅邊問題,減少電池片片內色差;本實用新型中的卡角在保證承載安全的情況下,盡量使其結構簡單,并且與硅片的接觸面積小,因此設計為圓弧形結構,并且上下端面與斜邊下邊緣平且,這樣可以保證硅片能夠置于框架內部,避免晃動,防止損壞硅片;另外,可以把卡角的上下端面設計為曲面,從邊緣向中線逐漸減薄,這樣可以使弧形板的上下端面與硅片表面貼合,實現支撐。
附圖說明
下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明。
圖1是本實用新型的結構示意圖;
圖2是圖1中卡角的另一種結構形式;
其中:1、邊框內沿,2、卡角,3、邊框外沿。
具體實施方式
根據附圖1可知,本實用新型具體涉及一種新型PECVD上鍍膜載板,包括載板本體,所述載板本體為石墨材質的框架形結構,載板本體的邊框內沿1均為斜面,邊框外沿3保持原有的截面,載板本體的內角處均設有卡角2,卡角2為1/4的圓弧板,其上下兩個端面與斜面的下端平齊,卡角2的兩個直角邊長相等,并且直角邊與內框的長度比例為:1/10~1/15。
本實用新型的技術方案是對載板棱角分明的邊緣進行修改,用斜面代替棱角,處于所述載板本體內部的框架,其表面為兩個對稱的斜面,兩個斜面的上端重合。該結構可以減小PE上鍍膜載板邊緣的厚度,在不影響載板裝載電池片后的正常運輸,可用此方法減小載板厚度,減少石墨載板邊緣對氮化硅膜沉積的影響,導致電池片邊緣的色差。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





