[實用新型]一種選擇性非催化還原脫硝設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420235923.0
• 申請日: 2014-05-09
• 公開（公告）號: CN203816484U
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 浦東山;秦慶豐
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇東本環(huán)保工程有限公司
• 主分類號: B01D53/76
• 分類號: B01D53/76;B01D53/86;B01D53/96;B01D53/56
• 代理公司: 江蘇英特東華律師事務(wù)所 32229
• 代理人: 邵鋆

1.一種選擇性非催化還原脫硝設(shè)備，包括脫硝爐（1），其特征是：該脫硝爐（1）的爐膛（2）內(nèi)布設(shè)多組還原劑噴槍（3），脫硝爐（1）的煙道（4）內(nèi)，按照煙氣流向，上游段設(shè)有省煤器（5），中游段設(shè)有若干氨氣流循環(huán)板（6），該氨氣流循環(huán)板（6）呈碗型，其中央設(shè)有透氣孔，所述省煤器（5）與氨氣流循環(huán)板（6）、氨氣流循環(huán)板（6）之間均設(shè)有加熱管組（7），脫硝爐（1）的煙道（4）下游段設(shè)有隔板（8），隔板（8）上游設(shè)有若干催化劑隔層（9）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選擇性非催化還原脫硝設(shè)備，其特征是：所述氨氣流循環(huán)板（6）按照煙氣流向共有兩層，分別為第一循環(huán)板（10）和第二循環(huán)板（11）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的選擇性非催化還原脫硝設(shè)備，其特征是：所述催化劑隔層（9）共為三層，均勻布設(shè)于所述第二循環(huán)板（11）和隔板（8）之間。