[實用新型]臥式全自動足浴盆

有效

• 申請號: 201420209596.1
• 申請日: 2014-04-21
• 公開（公告）號: CN203914700U
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發明（設計）人: 姜博侖
• 申請（專利權）人: 姜博侖
• 主分類號: A47K3/022
• 分類號: A47K3/022
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種臥式全自動足浴盆，包括盆體，其特征在于，所述盆體底部中間延伸出一適合小腿搭放的弧形坡，作為小腿支撐臺面，所述小腿支撐臺面與盆體一端的側壁曲線連接，所述小腿支撐臺面與盆體側壁和盆體底部構成一空間，所述空間內分為兩個腔室，第一腔室內設有加熱器和水泵，第二腔室內設有烘干機，所述小腿支撐臺面上部中間設有溢水排水口與所述第一腔室連通，所述盆體底部設有凸起的出水循環流道，所述小腿支撐臺面相對的另一端盆體側壁上部向內設有瀑布式流道，所述出水循環管道的一端連接所述第一腔室，所述出水循環管道的另一端連通所述瀑布式流道，所述瀑布式流道的流出口高于所述溢水排水口。

2.根據權利要求1所述的足浴盆，其特征在于，所述小腿支撐臺面的角度在25-45度之間。

3.根據權利要求1所述的足浴盆，其特征在于，所述小腿支撐臺面頂部設有烘干口，與第二腔室內的烘干機連通，所述烘干口為半環形。

4.根據權利要求3所述的足浴盆，其特征在于，所述烘干口內圈具有落水口，所述落水口與第一腔室相連通。

5.根據權利要求1、3或4所述的足浴盆，其特征在于，所述溢水排水口、烘干口或落水口具有網面覆蓋。

6.根據權利要求1所述的足浴盆，其特征在于，所述小腿支撐臺面中部兩側設有由下向上的排水導引結構。

7.根據權利要求1所述的足浴盆，其特征在于，所述盆體兩側設有扣手。

8.根據權利要求1所述的足浴盆，其特征在于，所述盆體側壁外部設有顯示屏。