[實(shí)用新型]利用光譜吸收法測(cè)量SF6分解物CF4氣體濃度的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420207727.2 | 申請(qǐng)日: | 2014-04-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203786028U | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魯鋼;劉洋;宋杲;顏湘蓮;季嚴(yán)松;蘇鎮(zhèn)西;楊韌;趙也;姚強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 國(guó)家電網(wǎng)公司;黑龍江省電力科學(xué)研究院;中國(guó)電力科學(xué)研究院;國(guó)網(wǎng)安徽省電力公司電力科學(xué)研究院;國(guó)網(wǎng)陜西省電力公司電力科學(xué)研究院;國(guó)網(wǎng)重慶市電力公司電力科學(xué)研究院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/31 | 分類號(hào): | G01N21/31 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
| 地址: | 100031 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 利用 光譜 吸收 測(cè)量 sf sub 分解 cf 氣體 濃度 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光電檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域。?
背景技術(shù)
六氟化硫(SF6)具有優(yōu)良的絕緣滅弧性能和理化特性,作為絕緣介質(zhì)既可以減小設(shè)備尺寸,又能提高絕緣強(qiáng)度,伴隨著城市用地的日益緊張,廣泛應(yīng)用于組合絕緣電器(GIS)、斷路器(GCB)、變壓器(GIT)、電纜(GIC)、輸電管道(GIL)等輸配電設(shè)備中。?
純凈的SF6是無(wú)色、無(wú)毒、無(wú)味、不燃的惰性氣體,在溫度為150°C及以下時(shí)不易與其它物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),正常運(yùn)行時(shí)分解產(chǎn)物極少或不分解。當(dāng)SF6設(shè)備中發(fā)生絕緣隱患或故障時(shí),無(wú)論是局部電暈、火花或是電弧放電,都必然會(huì)引起能量釋放,這些能量會(huì)使SF6氣體發(fā)生分解反應(yīng),生成H2S、SO2、CF4、SF3、SF4等多種低氟硫化物。SF6分解組分會(huì)加速GIS內(nèi)絕緣的老化和金屬材料表面的腐蝕,加重局部放電程度,嚴(yán)重時(shí)還會(huì)導(dǎo)致GIS發(fā)生突發(fā)性絕緣故障。因此對(duì)SF6濃度的測(cè)量是必須的。?
目前國(guó)內(nèi)外均有大量商業(yè)化的SF6檢測(cè)器,歸納起來(lái)主要有4種測(cè)量方法:高壓擊穿法、色譜法、離子移動(dòng)度計(jì)和紅外光吸收譜法。?
高壓擊穿法主要是根據(jù)待測(cè)SF6擊穿電壓的變化來(lái)進(jìn)行定性測(cè)量,并不能定量給出SF6氣體濃度,而且不能實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)。?
色譜法:色譜法被廣泛應(yīng)用于復(fù)雜組分的分離與鑒定。一般由真空系統(tǒng)、進(jìn)樣系統(tǒng)、離子源、檢測(cè)器和計(jì)算機(jī)控制等部分組成。優(yōu)點(diǎn)是測(cè)量精度和靈敏度較高。缺點(diǎn)是設(shè)備昂貴,且不能實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)。?
離子移動(dòng)度計(jì)法:它是通過(guò)對(duì)設(shè)備中SF6氣體總體雜質(zhì)含量的測(cè)定,來(lái)反應(yīng)設(shè)備中SF6氣體的優(yōu)劣程度。優(yōu)點(diǎn)是測(cè)量成分多,精度較高。缺點(diǎn)是易受實(shí)驗(yàn)環(huán)境條件影響,不能實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是為了解決現(xiàn)有測(cè)量CF4氣體濃度的裝置不能同時(shí)滿足測(cè)量精度高和測(cè)量設(shè)備成本低,并且不能實(shí)現(xiàn)在線監(jiān)測(cè)的問(wèn)題,提供了一種利用光譜吸收法測(cè)量SF6分解物CF4氣體濃度的裝置。?
本發(fā)明所述利用光譜吸收法測(cè)量SF6分解物CF4氣體濃度的裝置,它包括激光器、第一聚光鏡、樣品池、第二聚光鏡和光譜儀,激光器出射的光射入第一聚光鏡,經(jīng)第一聚光?鏡的透射變成平行光入射至樣品池,樣品池將出射光輸送至第二聚光鏡,經(jīng)第二聚光鏡的聚焦輸送至光譜儀的入射狹縫中。?
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn):本發(fā)明所述利用光譜吸收法測(cè)量SF6分解物CF4氣體濃度的裝置能夠測(cè)量1ppm以上CF4氣體的濃度,能夠精確測(cè)量分解氣體中CF4氣體的濃度。同時(shí),本發(fā)明易于實(shí)際應(yīng)用、裝置簡(jiǎn)單、數(shù)據(jù)處理過(guò)程簡(jiǎn)單、測(cè)量精度高,能夠?qū)崟r(shí)在線監(jiān)測(cè)。測(cè)量精度達(dá)1ppm。?
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明所述利用光譜吸收法測(cè)量SF6分解物CF4氣體濃度的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。?
具體實(shí)施方式
具體實(shí)施方式一:下面結(jié)合圖1說(shuō)明本實(shí)施方式,本實(shí)施方式所述利用光譜吸收法測(cè)量SF6分解物CF4氣體濃度的裝置,它包括激光器1、第一聚光鏡2、樣品池3、第二聚光鏡4和光譜儀5,激光器1出射的光射入第一聚光鏡2,經(jīng)第一聚光鏡2的透射變成平行光入射至樣品池3,樣品池3將出射光輸送至第二聚光鏡4,經(jīng)第二聚光鏡4的聚焦輸送至光譜儀5的入射狹縫中。?
本實(shí)施方式中,光譜儀5的入射狹縫位于第二聚光鏡4的焦點(diǎn)處,用于保證最強(qiáng)光射入光譜儀5。?
具體實(shí)施方式二:本實(shí)施方式對(duì)實(shí)施方式一作進(jìn)一步說(shuō)明,所述激光器1發(fā)射的激光束的波長(zhǎng)為7.8μm。?
具體實(shí)施方式三:本實(shí)施方式對(duì)實(shí)施方式一作進(jìn)一步說(shuō)明,所述光譜儀5的入射狹縫位于第二聚光鏡4的焦點(diǎn)處。?
具體實(shí)施方式四:本實(shí)施方式對(duì)實(shí)施方式一作進(jìn)一步說(shuō)明,所述樣品池3為密封的圓筒結(jié)構(gòu)。?
該裝置在使用時(shí):首先在樣品池3中充入大氣,打開(kāi)激光器1,通過(guò)光譜儀5獲取大氣的光譜;然后將待測(cè)氣體CF4充入樣品池;通過(guò)光譜儀5獲取待測(cè)氣體CF4的光譜;根據(jù)比爾定律獲取待測(cè)氣體CF4的濃度。?
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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