[實用新型]一種介質加熱用途的等離子體噴槍

有效

• 申請號: 201420207198.6
• 申請日: 2014-04-27
• 公開（公告）號: CN203827593U
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發明（設計）人: 周開根
• 申請（專利權）人: 衢州昀睿工業設計有限公司
• 主分類號: H05H1/28
• 分類號: H05H1/28;H05H1/42
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種介質加熱用途的等離子體噴槍，其特征是噴槍主要由前槍體（2）、陽極（4）、后槍體（14）、陰極（7）和絕緣架（23）組成，其中，前槍體（2）呈回轉體結構，前槍體（2）上有導流套管（6）和向后延伸的筒體（22），導流套管（6）在筒體（22）的內空間中；陽極（4）嵌入在前槍體（2）的回轉體內，陽極（4）的前部呈由前向后逐漸收窄的喇叭形結構，喇叭形結構的內空間構成離子弧通道（Ⅰ），喇叭形結構的后部為圓孔形的喉口，圓孔形的喉口構成壓縮通道（Ⅳ），陽極（4）的后部呈圓柱形的空間，陽極（4）后部的圓柱形空間通過壓縮通道（Ⅳ）連通到離子弧通道（Ⅰ）；前槍體（2）筒體與陽極（4）壁體之間的空間構成冷卻水套，導流套管（6）把冷卻水套分隔為外層水套（Ⅱ）和內層水套（Ⅲ），外層水套（Ⅱ）的后端與內層水套（Ⅲ）的后端相互連通，外層水套（Ⅱ）的前端有冷卻水進口（5）接入，內層水套（Ⅲ）的前端有冷卻水出口（3）接出；后槍體（14）呈回轉體結構，后槍體（14）的回轉體結構上有陰極座（18），陰極座（18）為圓管體結構，陰極（7）安裝在陰極座（18）的前端，陰極（7）的體內有冷卻腔（Ⅸ）；絕緣架（23）的體中有前承插口和后承插口，前承插口和后承插口之間通過圓形通孔連通，前槍體（2）安裝在絕緣架（23）的前端，前槍體（2）的延伸筒體（22）插入到絕緣架（23）的前承插口中，后槍體（14）安裝在絕緣架（23）的后端，后槍體（14）上的陰極座（18）進入到絕緣架（23）的后承插口中，陰極座（18）前端的陰極（7）頭部伸入到陽極（4）后部的圓柱形空間中，陰極（7）的頭部與陽極（4）后部壁體之間的空間構成電離通道（Ⅴ），陰極座（18）壁體與絕緣架（23）壁體之間的空間構成旋流通道（Ⅵ），旋流通道（Ⅵ）連通到電離通道（Ⅴ），旋流通道（Ⅵ）有工作氣接入口（19）接入。

2.根據權利要求1所述的一種介質加熱用途的等離子體噴槍，其特征是在前槍體（2）中有封頭（20），陽極（4）后端的外壁與筒體（22）后端的內壁之間通過封頭（20）進行緊密連接，陽極（4）的前端外壁與前槍體（2）的前端內壁進行緊密連接。

3.根據權利要求1所述的一種介質加熱用途的等離子體噴槍，其特征是壓縮通道（Ⅳ）的孔道比為0.7-1.5，壓縮通道（Ⅳ）的入口呈喇叭形的收窄喉口結構。

4.根據權利要求1所述的一種介質加熱用途的等離子體噴槍，其特征是在后槍體（14）的回轉體結構內有導流管（15），導流管（15）的內空間構成冷卻水輸入通道（Ⅶ），導流管（15）外壁與陰極座（18）內壁之間的空間構成冷卻水回流通道（Ⅷ），冷卻水輸入通道（Ⅶ）和冷卻水回流通道（Ⅷ）連通到冷卻腔（Ⅸ），冷卻水輸入通道（Ⅶ）有冷卻水輸入接口（16）接入，冷卻水回流通道（Ⅷ）有冷卻水回流接口（17）接出。

5.根據權利要求1所述的一種介質加熱用途的等離子體噴槍，其特征是工作氣接入口（19）設置在后槍體（14）上或設置在絕緣架（23）的壁體上，工作氣接入口（19）兼作加熱介質接入口，工作氣接入口（19）以切線方向接入旋流通道（Ⅵ）。

6.根據權利要求1所述的一種介質加熱用途的等離子體噴槍，其特征是絕緣架（23）兼作線圈骨架，絕緣架（23）的外壁上有線槽結構，線槽結構中有磁壓縮線圈（24），磁壓縮線圈（24）有輸入端（10）和輸出端（9）。

7.根據權利要求1所述的一種介質加熱用途的等離子體噴槍，其特征是在前槍體（2）與絕緣架（23）的前端連接面之間有密封墊（1）。

8.根據權利要求1所述的一種介質加熱用途的等離子體噴槍，其特征是陰極（7）的頭部為半球體結構，在陰極（7）與陰極座（18）的接口上有密封環（8）。

9.根據權利要求1所述的一種介質加熱用途的等離子體噴槍，其特征是在陰極座（18）的外壁上有隔熱套（12），隔熱套（12）的后端有凸環，隔熱套（12）后端的凸環構成后槍體（14）與絕緣架（23）之間的密封體。

10.根據權利要求1或9所述的一種介質加熱用途的等離子體噴槍，其特征是在旋流通道（Ⅵ）中有旋流肋片（11），旋流肋片（11）與絕緣架（23）連為一體，或旋流肋片（11）與隔熱套（12）連為一體。