[實用新型]砂畫流動裝置有效
| 申請號: | 201420203733.0 | 申請日: | 2014-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN203805610U | 公開(公告)日: | 2014-09-03 |
| 發明(設計)人: | 林正雄 | 申請(專利權)人: | 林正雄 |
| 主分類號: | B44C5/00 | 分類號: | B44C5/00 |
| 代理公司: | 廈門南強之路專利事務所(普通合伙) 35200 | 代理人: | 馬應森 |
| 地址: | 中國臺灣臺北市文*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 流動 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種砂畫,尤其是涉及一種砂畫流動裝置。
背景技術
近年來,砂畫并沒有甚么改變,主要在透明薄層中空體內灌注液體(如水或油)與比重比液體大的微粒物(如砂),翻轉后顆粒物藉由液體自由快速流動,或留有適量空氣來阻擋砂下落,但效果均不佳,因適量空氣經常一段時間后液體泄漏形成消失或太多,造成微粒物因沒有空氣而瞬間落下或空氣太多阻擋微粒物無法落下,而無法形成有層次的圖案,而空氣混合在砂畫里,也容易造成視覺不完美、效果不佳、生產制造工藝復雜、液體泄漏等問題。
本申請人在中國專利CN201784393U中公開了一種流動砂畫裝置,包括透明中空體、液體和微粒物,所述微粒物包括至少1種浮于液體表面,比重小于液體的微粒物。
發明內容
本實用新型的目的在于針對現有砂畫存在的上述不足,提供一種改進的砂畫流動裝置。
本實用新型設有透明薄層中空體、微粒物和至少1層阻隔物;
所述透明薄層中空體為密封透明薄層中空體,阻隔物設在透明薄層中空體內,阻隔物上設有至少1個缺口,所述微粒物為至少2種不同比重或不同顆粒大小的微粒物。
所述透明薄層中空體的正面形狀可為圓形、橢圓形、多邊形、動物造型等,所述多邊形可采用正方形、長方形、五角形、六邊形等。
所述透明薄層中空體可設有外框。
所述透明薄層中空體上可設有固定架,用于透明薄層中空體的旋轉與支撐。
所述阻隔物上設有的至少1個缺口供微粒物流通。
所述微粒物可采用砂粒等,所述微粒物可采用不同顏色的微粒物,或表面涂染不同顏色的微粒物。
制造時,先將阻隔物設置透明薄層中空體內,再將微粒物填充于透明薄層中空體內再密封。
使用時,每翻轉本實用新型一次,即可看到微粒物向下掉落,雜色微粒物掉落在阻隔物上,再由阻隔物上的缺口掉落向下形成堆積如金字塔形狀,且因微粒物有不同比重、大小、顏色,故掉落堆積時因顆粒滾動會形成層層迭迭金字塔狀,又因微粒物染有不同顏色,故形成層層迭迭漂亮顏色圖案,若阻隔物設有多層,則圖案更加豐富多彩,并形成不確定圖案,形成一幅流動畫面,經一段時間直到停止,其過程從開始到停止均充滿變化、美感,且每次均有不同圖案變化。
本實用新型克服了現有砂畫存在的缺點,現有的砂畫均填充液體,再藉由液體當媒介,導引微粒物向下掉落,但當液體發生變質、泄漏時均嚴重影響砂畫功能。而本實用新型藉阻隔物導引微粒物直接向下掉落,則不再依賴液體當媒介,可克服上述嚴重缺點,視覺完美、效果佳、生產制造工藝簡單、無液體泄漏,保有微粒物自然落下形成層層迭迭漂亮顏色圖案,也因阻隔物設置形成另外一種美。
附圖說明
圖1為現有的砂畫結構示意圖。
圖2為本實用新型實施例1的結構組成示意圖。
圖3為本實用新型實施例2的結構組成示意圖。
圖4為本實用新型實施例3的結構組成分解示意圖。
圖5為本實用新型實施例4的不同正面形狀與阻隔物的結構示意圖。
圖6為本實用新型實施例5加設外框和固定架的結構示意圖。
具體實施方式
以下實施例將結合附圖對本實用新型作進一步說明。
圖1給出現有的砂畫結構示意圖,砂畫設有透明薄層中空體10a、微粒物30a和液體40a,圖1中的標記20a為空氣形成的氣泡。
實施例1:
參見圖2,本實施例設有透明薄層中空體10、微粒物30和2層阻隔物20。所述透明薄層中空體10為密封透明薄層中空體,阻隔物20設在透明薄層中空體10內,阻隔物20上設有至少1個缺口,所述微粒物30為至少2種不同比重、顆粒大小和顏色的混合微粒物。
所述透明薄層中空體10的正面形狀為正方形,阻隔物20采用阻隔板。
圖2中,標記31為微粒物30下落后形成的金字塔形與不同顏色區分層層迭迭沙堆。
實施例2:
參見圖3,與實施例1類似,其區別在于所述透明薄層中空體10設有外框40和可供旋轉的固定架50,外框40采用矩形外框。
在圖3中,箭頭方向為透明薄層中空體10的翻轉方向。
實施例3:
參見圖4,與實施例2類似,其區別在于外框設有前外框42和后外框41,前外框42和后外框41采用矩形外框。在圖4中的其它標號與圖2和3相同。
實施例4:
參見圖5,與實施例1類似,其區別在于所述透明薄層中空體10的正面形狀為圓形。阻隔物20的缺口采用上下V形結構。在圖5中的其它標號與圖2和3相同。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于林正雄,未經林正雄許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420203733.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





