[實用新型]一種縫隙參與輻射的Loop天線系統

有效

• 申請號: 201420200350.8
• 申請日: 2014-04-23
• 公開（公告）號: CN203850424U
• 公開（公告）日: 2014-09-24
• 發明（設計）人: 李鵬;皮曉輝;盛洪宇;徐春陽
• 申請（專利權）人: 小米科技有限責任公司;上海安費諾永億通訊電子有限公司
• 主分類號: H01Q1/36
• 分類號: H01Q1/36;H01Q13/10
• 代理公司: 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236
• 代理人: 胡晶

1.一種縫隙參與輻射的Loop天線系統，其特征在于，包括一金屬邊框，所述金屬邊框的一側邊上開設有兩個縫隙，所述金屬邊框的內部設有凈空區和主地部分，所述凈空區位于所述金屬邊框內靠進所述兩個縫隙的一側，所述主地部分與所述金屬邊框相連；所述兩個縫隙之間的金屬邊框的兩端通過天線部分分別連接饋源和所述主地部分，形成一Loop天線結構形式，所述天線部分位于所述凈空區內。

2.根據權利要求1所述的縫隙參與輻射的Loop天線系統，其特征在于，所述金屬邊框呈矩形狀，所述兩個縫隙設置在所述金屬邊框的底邊上。

3.根據權利要求1所述的縫隙參與輻射的Loop天線系統，其特征在于，所述天線部分包括：

第一輻射部分，一端連接所述饋源，所述第一輻射部分的另一端呈彎折狀連接到所述兩個縫隙之間的金屬邊框的一端上，且所述第一輻射部分與所述兩個縫隙之間的金屬邊框相對；

第二輻射部分，一端連接所述兩個縫隙之間的金屬邊框的另一端，且所述第二輻射部分與所述第一輻射部上連接所述饋源一端的端部相對；

第三輻射部分，所述第二輻射部分通過所述第三輻射部分連接到所述主地部分上。

4.根據權利要求1所述的縫隙參與輻射的Loop天線系統，其特征在于，所述兩個縫隙內均填充有絕緣介質。

5.根據權利要求1所述的縫隙參與輻射的Loop天線系統，其特征在于，所述兩個縫隙的寬度均大于等于0.6mm。