[實用新型]集控式射流真空裝置有效
| 申請號： | 201420192304.8 | 申請日： | 2014-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN203829670U | 公開（公告）日： | 2014-09-17 |
| 發明（設計）人： | 閆翠娥;韓春橋 | 申請（專利權）人： | 葵花藥業集團（冀州）有限公司 |
| 主分類號： | B01D1/30 | 分類號： | B01D1/30 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 053200 河*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 集控式 射流 真空 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種集控式射流真空裝置，其特征在于：包括有第一射流真空泵、第二射流真空泵、中間真空桶、集控閥、控制器以及真空監測模塊；第一射流真空泵、第二射流真空泵各通過一導管與中間真空桶相連通；所述中間真空桶為四周密封的圓桶，其殼體由高強度金屬制成；所述中間真空桶通過導管與集控閥相連通；所述集控閥上設有多個分支口，各分支口處均設有一電磁控制閥門，且各分支口分別通過導管與一濃縮器相連；所述各分支口處均各設有一真空監測模塊；所述控制器通過線纜分別與真空監測模塊、電磁控制閥門、第一射流真空泵、第二射流真空泵相連。
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