[實用新型]一種鍍膜機真空冷卻裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420189774.9
• 申請日: 2014-04-18
• 公開（公告）號: CN203904444U
• 公開（公告）日: 2014-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 阮成武;陳軍海;王志邦
• 申請（專利權(quán)）人: 蕪湖市德寶新材料股份有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C14/56
• 代理公司: 南京正聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243
• 代理人: 沈志海

1.一種鍍膜機真空冷卻裝置，包括有真空泵（1）和冷水槽（2），其特征在于：所述真空泵（1）上方連接有第一氣管（3），第一氣管（3）中間右側(cè)連接有第二氣管（4），第二氣管（4）上設(shè)置有泄氣閥門（5）；第一氣管（3）中間偏上左側(cè)設(shè)置有第三氣管（6），第三氣管（6）的末端連接有油擴散泵（7），第三氣管（6）上設(shè)置有前級閥門（8）；第一氣管（3）的末端向左連接有第四氣管（9），第四氣管（9）上設(shè)置有預抽氣閥門（10）；油擴散泵（7）上方連接有第五氣管（11），第五氣管（11）的末端連接有鍍膜室（12），第五氣管（11）上中間偏下部分從下到上依次設(shè)置有冷井（13）和高真空閥門（14），第五氣管（11）中間偏上右側(cè)連接著第四氣管（9），第五氣管（11）的上部向左連接有第六氣管（15），第六氣管（15）上設(shè)置有放氣閥門（16）；所述冷井（13）左側(cè)從上到下依次設(shè)置有第一水管（17）和第二水管（18），第一水管（17）的末端連接有循環(huán)水箱（19），第二水管（18）的末端連接著冷水槽（2），循環(huán)水箱（19）和冷水槽（2）之間設(shè)置有第三水管（20）連接起來。

2.如權(quán)利要求1所述一種鍍膜機真空冷卻裝置，其特征在于：所述冷水槽（2）為半導體低溫冰箱。

3.如權(quán)利要求1所述一種鍍膜機真空冷卻裝置，其特征在于：所述第二水管（18）與冷水槽（2）之間設(shè)置有熱交換器（21）。

4.如權(quán)利要求1所述一種鍍膜機真空冷卻裝置，其特征在于：所述第三水管（20）上位于循環(huán)水箱（19）內(nèi)設(shè)置有水閥門（22），第三水管（20）上中間還設(shè)置水泵（23）。