[實(shí)用新型]一種雙鍍膜卷繞裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420189737.8 | 申請日: | 2014-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN203904453U | 公開(公告)日: | 2014-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王志邦;陳軍海 | 申請(專利權(quán))人: | 蕪湖市德寶新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56 |
| 代理公司: | 南京正聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243 | 代理人: | 沈志海 |
| 地址: | 241300 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鍍膜 卷繞 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及鍍膜機(jī)的開頭的放膜、結(jié)尾的收膜領(lǐng)域,尤其涉及一種雙鍍膜卷繞裝置。?
背景技術(shù)
真空蒸渡金屬薄膜是在高真空條件下,以電阻、高頻或電子加熱使金屬熔融氣化,在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜,其中被鍍金屬材料用的最多的是鋁,一般是卷好的基膜進(jìn)入鍍膜機(jī)進(jìn)行鍍膜再卷好出來,現(xiàn)在生產(chǎn)中用的是雙鍍膜,而現(xiàn)在的卷繞裝置功能依舊不是那么優(yōu)異,對雙鍍膜的卷繞不是那么優(yōu)異而且占空間,實(shí)際情況中的放膜速度、收膜速度以及放膜收膜張力等等依然存在問題,比如速度的調(diào)節(jié)不是那么優(yōu)異,張力的控制無法達(dá)到要求,因此解決這些問題就顯得十分必要了。?
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型提供一種雙鍍膜卷繞裝置,通過采用特有的繞法卷繞,在原有的卷繞裝置上增加卷徑測量輥、電阻測量輥和張力測量輥等等,使卷繞裝置性能更加優(yōu)異,張力可調(diào),速度可調(diào),還可實(shí)現(xiàn)定距離卷取,以及測量電阻,解決了背景技術(shù)中出現(xiàn)的問題。?
本實(shí)用新型的目的是提供一種雙鍍膜卷繞裝置,包括卷繞室,所述卷繞室內(nèi)部右上方設(shè)置有放膜輥,放膜輥上繞待鍍膜,放膜輥下方設(shè)置有放膜張力調(diào)節(jié)輥,放膜張力調(diào)節(jié)輥的下方偏左設(shè)置有放膜張力測量輥,放膜張力測量輥的左上方設(shè)置有第一導(dǎo)向輥,第一導(dǎo)向輥的左下方設(shè)置有第一展平輥,第一展平輥的左下側(cè)為第一鍍輥,第一鍍輥的左上側(cè)設(shè)置有第二展平輥,第二展平輥的左上方設(shè)置有第二導(dǎo)向輥,第二導(dǎo)向輥的上方偏右設(shè)置有第三導(dǎo)向輥,第三導(dǎo)向輥的左側(cè)水平位置距卷繞室邊沿處設(shè)置有第四導(dǎo)向輥,第四導(dǎo)向輥的下方偏左設(shè)置第五導(dǎo)向輥;第五導(dǎo)向輥的右下方設(shè)置有第三展平輥,第三展平輥的右下方設(shè)置有第二鍍輥,第二鍍輥右上方設(shè)置有第四展平輥,第四展平輥的右上方設(shè)置有收膜張力測量輥,收膜張力測量輥的左上方設(shè)置有收膜張力調(diào)節(jié)輥,收膜張力調(diào)節(jié)輥的右上方設(shè)置有收膜輥,收膜張力調(diào)節(jié)輥和收膜輥還設(shè)置有膜徑追蹤輥,在膜徑追蹤輥和收膜張力調(diào)節(jié)輥之間還設(shè)置有電阻測量輥。?
?進(jìn)一步改進(jìn)在于所述放膜輥和收膜輥的后面設(shè)置有恒張力卷繞電機(jī)調(diào)速裝置。
??進(jìn)一步改進(jìn)在于:所述卷繞室左上外側(cè)設(shè)置有抽真空口。
進(jìn)一步改進(jìn)在于:所述卷繞室下為鍍膜室,第一鍍輥和第二鍍輥上部分在卷繞室內(nèi),下部分在鍍膜室內(nèi)。?
?本實(shí)用新型的有益效果:本裝置通過設(shè)置放膜輥繞待鍍膜,兩個鍍輥鍍膜,通過特定的繞法繞膜,收膜輥卷繞鍍好的膜,設(shè)置張力調(diào)節(jié)輥和張力測量輥從而達(dá)到控制其張力,膜徑追蹤輥達(dá)到定距離卷取以及保證收膜輥對鍍好的膜卷取的平整,還設(shè)置電阻測量輥的測量其電阻達(dá)到測量其厚度目的,整個裝置的設(shè)計(jì)節(jié)省了空間,十分便捷,整個裝置性能優(yōu)異,適用于鍍膜生產(chǎn)中。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型的截面示意圖。?
其中:1-卷繞室,2-放膜輥,3-放膜張力調(diào)節(jié)輥,4-放膜張力測量輥,5-第一導(dǎo)向輥,6-第一展平輥,7-第一鍍輥,8-第二展平輥,9-第二導(dǎo)向輥,10-第三導(dǎo)向輥,11-第四導(dǎo)向輥,12-第五導(dǎo)向輥,13-第三展平輥,14-第二鍍輥,15-第四展平輥,16-收膜張力測量輥,17-收膜張力調(diào)節(jié)輥,18-收膜輥,19-膜徑追蹤輥,20-電阻測量輥,21-卷繞電機(jī)調(diào)速裝置,22-抽真空口,23-鍍膜室。?
具體實(shí)施方式
為了加深對本實(shí)用新型的理解,下面將結(jié)合實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳述,該實(shí)施例僅用于解釋本實(shí)用新型,并不構(gòu)成對本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限定。?
如圖1所示,本實(shí)施例提供一種雙鍍膜卷繞裝置,主體為卷繞室1,在卷繞室1內(nèi)部右上方設(shè)置有放膜輥2繞待鍍膜,卷繞室1內(nèi)底部設(shè)置有兩個鍍輥,在放膜輥2和第一鍍輥7在膜繞的方向之間設(shè)置放膜張力調(diào)節(jié)輥3、放膜張力測量輥4,導(dǎo)向輥和展平輥,通過這些部件達(dá)到放膜張力的調(diào)節(jié)、導(dǎo)向和膜的展平;第一鍍輥7和第二鍍輥14在膜繞的方向之間的設(shè)置有展平輥、導(dǎo)向輥,第二鍍輥14右上方設(shè)置有第四展平輥15對二次鍍膜的膜展平,后面依次設(shè)置有收膜張力測量輥16、收膜張力調(diào)節(jié)輥17、膜徑追蹤輥19和收膜輥18,膜徑追蹤輥19保證定距離卷取,在收膜張力調(diào)節(jié)輥17和收膜輥18之間還設(shè)置有電阻測量輥20來測量鍍膜的電阻從而得出其厚度;放膜輥2和收膜輥18通過恒張力卷繞電機(jī)調(diào)速裝置21控制的運(yùn)行;整個卷繞室1下是鍍膜室23,兩個鍍輥上部分在卷繞室1內(nèi)下部分在鍍膜室23內(nèi);本裝置通過設(shè)置放膜輥2繞待鍍膜,兩個鍍輥鍍膜,通過特定的繞法繞膜,收膜輥18卷繞鍍好的膜,設(shè)置張力調(diào)節(jié)輥和張力測量輥從而達(dá)到控制其張力,膜徑追蹤輥19達(dá)到定距離卷取以及保證收膜輥對鍍好的膜卷取的平整,還設(shè)置電阻測量輥20的測量其電阻達(dá)到測量其厚度目的,整個裝置的設(shè)計(jì)節(jié)省了空間,十分便捷,整個裝置性能優(yōu)異,適用于鍍膜生產(chǎn)中。?
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





