[實用新型]基于左手材料的去互耦天線陣有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420176750.X | 申請日： | 2014-04-11 |
| 公開（公告）號： | CN203800171U | 公開（公告）日： | 2014-08-27 |
| 發(fā)明（設計）人： | 孫冉冉;孫緒保;姜琳;劉樹國;張亞莉;申雪雪 | 申請（專利權(quán)）人： | 山東科技大學 |
| 主分類號： | H01Q1/38 | 分類號： | H01Q1/38;H01Q1/52;H01Q21/00 |
| 代理公司： | 青島發(fā)思特專利商標代理有限公司 37212 | 代理人： | 耿霞 |
| 地址： | 266510 山東省青*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 左手 材料 去互耦 天線陣 | ||
1.一種基于左手材料的去互耦天線陣，其特征在于，包括左手材料覆蓋層、中間介質(zhì)層（4）和天線陣層，左手材料覆蓋層和天線陣層分別設于中間介質(zhì)層（4）兩側(cè)；左手材料覆蓋層由上覆蓋層（1）、左手材料介質(zhì)層（2）和下覆蓋層（3）組成，上覆蓋層（1）和下覆蓋層（3）之間設置左手材料介質(zhì)層（2），下覆蓋層（3）與中間介質(zhì)層（4）相接觸，天線陣層由金屬貼片層（5）、天線電介質(zhì)層（6）和金屬地板層（7）組成，金屬貼片層（5）與中間介質(zhì)層（6）相接觸，天線電介質(zhì)層（6）設于金屬貼片層（5）和金屬地板層（7）之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于左手材料的去互耦天線陣，其特征在于，所述上覆蓋層（1）包括四個基本單元I（8），四個基本單元I（8）關于上覆蓋層（1）中心點對稱設置，每個基本單元I（8）包括四條邊中間位置開口的正方形金屬框I（10）和金屬條（12），金屬條（12）兩端點分別設于金屬框I（10）兩條平行邊的開口中。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基于左手材料的去互耦天線陣，其特征在于，所述下覆蓋層包括四個基本單元II（9），四個基本單元II（9）關于下覆蓋層（3）中心點對稱設置，每個基本單元II（9）設為四條邊中間位置開口的正方形金屬框II（11）。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于左手材料的去互耦天線陣，其特征在于，所述金屬貼片層（5）包括四個矩形金屬貼片（13），四個矩形金屬貼片（13）關于金屬貼片層（5）中心對稱設置，每個金屬貼片（13）與微帶線（14）連接。
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