[實(shí)用新型]一種脫除甲基氯硅烷合成氣中固體顆粒的塔設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420176418.3
• 申請(qǐng)日: 2014-04-11
• 公開（公告）號(hào): CN203816419U
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天津市華瑞奕博化工科技有限公司
• 主分類號(hào): B01D47/12
• 分類號(hào): B01D47/12;C07F7/20;C07F7/16
• 代理公司: 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201
• 代理人: 宋潔瑾

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于有機(jī)硅生產(chǎn)領(lǐng)域，涉及甲基氯硅烷與硅粉及催化劑等固體顆粒的分離塔，具體涉及有機(jī)硅生產(chǎn)過程中洗滌脫去甲基氯硅烷合成氣中固體顆粒的塔設(shè)備。

背景技術(shù)

有機(jī)硅單體是以非金屬硅粉和氯代烴為原料，在催化劑的作用下合成的。其制法主要有：有機(jī)金屬化合物法、加成法、縮合法、再分配法和直接法。直接法具有原料易得、工序簡(jiǎn)單、不用溶劑、時(shí)空產(chǎn)率高，且易于實(shí)現(xiàn)連續(xù)化大生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)，一經(jīng)問世便很快取代了其他合成方法，成為工業(yè)上生產(chǎn)甲基氯硅烷的唯一方法。采用直接法制備的甲基氯硅烷合成氣中帶有大約0.1%wt左右的硅粉及催化劑等固體顆粒。洗滌塔的作用就是除去甲基氯硅烷合成氣中的固體顆粒。其合成氣中只要有氯甲烷、三甲基氯硅烷、一甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷、高沸物等。某工廠的合成氣的組成為：

表1合成氣組成

從以上表中可以看出，合成氣中甲基氯硅烷含量較高，含有少量的固體顆粒和高沸物。這部分固體顆粒主要是反應(yīng)物中的硅粉以及催化劑。這部分固體顆粒的存在，一部分增加了后續(xù)工藝的處理難度，同時(shí)也造成了昂貴的催化劑的損失。因此要脫除。但在脫除的同時(shí)應(yīng)盡量減少甲基氯硅烷的損失。

在處理此類問題的時(shí)候，一般的處理工藝是僅用一個(gè)洗滌塔進(jìn)行處理，處理效果是脫除了大量的固體顆粒，但在同時(shí)也帶出了含量不低的甲基氯硅烷。這就造成了甲基氯硅烷的損失。

因此，找到一種將盡可能減少甲基氯硅烷損失的脫除合成氣中固體顆粒的方法，對(duì)于降低整個(gè)有機(jī)硅生產(chǎn)工藝的成本，降低污染，提高有機(jī)氯硅烷中雜質(zhì)的含量，是非常有意義的。

實(shí)用新型內(nèi)容

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的問題，本實(shí)用新型提供了一種脫除甲基氯硅烷合成氣中固體顆粒的塔設(shè)備，解決現(xiàn)有技術(shù)中脫除甲基氯硅烷合成氣時(shí)甲基氯硅烷損失大的問題。

本實(shí)用新型是通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

一種脫除甲基氯硅烷合成氣中固體顆粒的塔設(shè)備，包括洗滌塔，所述洗滌塔設(shè)有進(jìn)料口及排渣口，所述洗滌塔的進(jìn)料口為低位進(jìn)料口，設(shè)置于塔底排渣口的側(cè)面管線與排渣口共用一個(gè)口，所述洗滌塔塔底側(cè)線出口與高溫?cái)嚢韪噙B接。

所述洗滌塔上部采用篩板塔盤，下部采用穿流塔盤。所述篩板塔盤占總塔盤數(shù)的2/3，穿流塔盤占總塔盤數(shù)的1/3。

本實(shí)用新型的有益效果為：

1.在高溫?cái)嚢韪淖饔孟拢瑢嚢韪械臍庀喾祷叵礈焖瑴p少了甲基氯硅烷的損失，使得排放物中夾帶的甲基氯硅烷單體含量由原來(lái)的25%降到5.8%。

2.上部采用篩板塔盤，下部仍采用抗堵塞效果好的穿流塔盤，這樣可以減小塔頂壓力的波動(dòng)，并且也不會(huì)出現(xiàn)塔盤被堵塞的現(xiàn)象。

3.由于進(jìn)料位置與排渣口相同，在進(jìn)料的同時(shí)也可以防止固體顆粒在排渣口處沉積，堵塞排渣口，洗滌塔排渣口的堵塞問題得到了解決。

4.達(dá)到了在保證除塵的基礎(chǔ)上，又除處一部分高沸物的指標(biāo)。

附圖說明

圖1為是原工藝塔設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型塔設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

其中，1，進(jìn)料口；2,氣相出料口；3,洗滌液進(jìn)料口；4,洗滌液排放口；5,高溫?cái)嚢韪?，排渣口；7，洗滌塔；8，篩板塔盤；9，穿流塔盤。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作詳細(xì)說明。

如圖2所示，本實(shí)用新型的脫除甲基氯硅烷合成氣中固體顆粒的塔設(shè)備，包括洗滌塔7，所述洗滌塔7設(shè)有進(jìn)料口1及排渣口6，所述洗滌塔7的進(jìn)料口1為低位進(jìn)料口，設(shè)置于塔底排渣口6的側(cè)面管線與排渣口6共用一個(gè)口，所述洗滌塔7塔底側(cè)線出口與高溫?cái)嚢韪?相連接。所述洗滌塔7上部采用篩板塔盤8，下部采用穿流塔盤9。所述篩板塔盤8占總塔盤數(shù)的2/3，穿流塔盤9占總塔盤數(shù)的1/3。

前序工段的合成氣經(jīng)過低位進(jìn)料口1進(jìn)入甲基氯硅烷洗滌塔7，在該塔內(nèi)經(jīng)過下層穿流塔盤9和上層篩板塔盤8洗滌液的洗滌，脫除了固體顆粒，塔頂形成脫除了固體顆粒的氣相，在氣相出料口2處得到精致合成氣，在塔底得到洗滌液和固體顆粒的混合物。在塔底側(cè)線出口，液相進(jìn)入高溫?cái)嚢韪?，在高溫?cái)嚢韪?的作用下，將攪拌釜中的氣相返回洗滌塔7，液相作為排放物排出系統(tǒng)。沉淀下來(lái)的固體經(jīng)排渣口6排出。由于進(jìn)料位置與排渣口6相同，在進(jìn)料的同時(shí)也可以防止固體顆粒在排渣口處沉積，堵塞排渣口6。

洗滌塔的操作壓力為1.0-1.5MPaG，塔底溫度采用常溫即可。

所采用的攪拌釜為高溫?cái)嚢韪僮鳒囟葹?2℃。