[實用新型]一種柔性觸摸屏導電膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420176310.4
• 申請日: 2014-04-11
• 公開（公告）號: CN203931538U
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 毛肖林
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市深越光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;G06F3/041
• 代理公司: 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標事務(wù)所(普通合伙) 44288
• 代理人: 李悅;張鵬

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及觸摸屏技術(shù)，具體涉及柔性觸摸屏導電膜。

背景技術(shù)

目前，觸控屏所使用的基底材料可大致分為兩類：一類是玻璃；另一類是有機聚合物。玻璃基底具有低雙折射率、低膨脹系數(shù)、低粗糙度、高尺寸穩(wěn)定性、耐高溫等諸多優(yōu)點，但以玻璃為基底制作的觸摸屏容易碎裂，且無法實現(xiàn)彎曲折疊，隨著電子產(chǎn)品朝輕型化、小型化方向發(fā)展，對基底材料的性能提出了新要求，需要有可以彌補玻璃基底不足的新材料出現(xiàn)。

有機聚合物是一類良好的柔性基底材料，具有很好的柔性且成本較低，且適合R-TO-R工藝大批量生產(chǎn)。有機聚合物根據(jù)其不同的性能主要分為：熱塑性半結(jié)晶型、熱塑性非結(jié)晶型以及高玻璃化溫度材料。熱塑性半結(jié)晶型主要有PET、PEN材料；熱塑性非結(jié)晶型主要有PC、PES材料；高玻璃化溫度材料主要有PAR、PCO、PI等，而目前使用較為廣泛是熱塑性半結(jié)晶型材料。

以有機聚合物為基底材料的觸摸屏有了廣泛應(yīng)用，但存在透過率低、邊緣引線通過傳統(tǒng)真空鍍金屬制作，引線易脫落，不耐彎曲等問題。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提出一種柔性觸摸屏導電膜，其能解決透過率低的問題。

為了達到上述目的，本實用新型所采用的技術(shù)方案如下：

一種柔性觸摸屏導電膜，其包括由下至上依次疊置的有機聚合物層、五氧化二鈮薄膜介質(zhì)層、二氧化硅粘接層、ITO透明導電層和引線層，所述引線層上開設(shè)有凹槽，所述凹槽內(nèi)填充有納米導電金屬。

優(yōu)選的，所述有機聚合物層為PET（Polyethylene terephthalate）層或PEN（聚萘二甲酸乙二醇酯）層。

優(yōu)選的，所述五氧化二鈮薄膜介質(zhì)層的折射率范圍為2.0-2.5。

優(yōu)選的，所述二氧化硅粘接層的折射率范圍為1.4-1.7。

優(yōu)選的，所述ITO（Indium Tin Oxides，銦錫氧化物）透明導電層的折射率范圍在為1.9-2.2。

優(yōu)選的，所述五氧化二鈮薄膜介質(zhì)層的厚度范圍為100-150埃。

優(yōu)選的，所述二氧化硅粘接層的厚度范圍為500-700埃。

優(yōu)選的，所述ITO透明導電層的厚度范圍為500-1500埃。

優(yōu)選的，所述引線層為OC材料層。

優(yōu)選的，所述引線層的厚度范圍為1-3um。

本實用新型具有如下有益效果：

有機聚合物層作為基底，在基底和ITO透明導電層之間鍍有五氧化二鈮薄膜介質(zhì)層和二氧化硅粘接層，有效提高產(chǎn)品的透過率，同時，利用轉(zhuǎn)印納米級導電金屬，形成導電引線，有效解決了傳統(tǒng)真空鍍金屬制作引線，引線易脫落且不耐彎曲等問題。

附圖說明

圖1為本實用新型較佳實施例的柔性觸摸屏導電膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面，結(jié)合附圖以及具體實施方式，對本實用新型做進一步描述。

如圖1所示，一種柔性觸摸屏導電膜，其包括由下至上依次疊置的有機聚合物層10、五氧化二鈮薄膜介質(zhì)層20、二氧化硅粘接層30、ITO透明導電層40和引線層50，所述引線層50上開設(shè)有凹槽（圖未標出），所述凹槽內(nèi)填充有納米導電金屬60。所示有機聚合物層10作為基底。

本實施例的有機聚合物層10優(yōu)選為PET（Polyethylene terephthalate）層或PEN（聚萘二甲酸乙二醇酯）層。具體可選用透過率大于90%的高亮PET聚酯薄膜。

本實施例的五氧化二鈮薄膜介質(zhì)層20的折射率范圍為2.0-2.5，其厚度范圍為100-150埃。

本實施例的二氧化硅粘接層30的折射率范圍為1.4-1.7，其厚度范圍為500-700埃。

本實施例的ITO（Indium Tin Oxides，銦錫氧化物）透明導電層40的折射率范圍在為1.9-2.2，其厚度范圍為500-1500埃。

本實施例的引線層50為OC材料層，其具有絕緣性，其厚度范圍為1-3um。

本實施例的制作過程如下：

在預(yù)處理后的基底上鍍五氧化二鈮薄膜介質(zhì)層20和二氧化硅粘接層30，在鍍好的二氧化硅粘接層30上鍍ITO透明導電層40，ITO透明導電層40利用黃光制程工藝：光刻膠涂覆、預(yù)烘、曝光、顯影、固化、刻蝕、光刻膠剝離，最后得到功能層圖案。在完成ITO功能層圖案的基板上制作引線層50，曝光，顯影后形成引線凹槽，對凹槽進行烘烤后，印壓納米導電金屬60。表面擦除多余的納米導電金屬后燒結(jié)、固化后形成所需要的高透過率，耐彎曲的透明導電膜。

對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，可根據(jù)以上描述的技術(shù)方案以及構(gòu)思，做出其它各種相應(yīng)的改變以及變形，而所有的這些改變以及變形都應(yīng)該屬于本實用新型權(quán)利要求的保護范圍之內(nèi)。