[實用新型]具有雙反射鏡的微型原子氣體腔器件有效
| 申請號: | 201420171024.9 | 申請日: | 2014-04-10 |
| 公開(公告)號: | CN203950128U | 公開(公告)日: | 2014-11-19 |
| 發明(設計)人: | 許磊;鄭林華;劉建勇;王光池;王曉東;齊步坤 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第三十八研究所 |
| 主分類號: | G04F5/14 | 分類號: | G04F5/14;B81B1/00;B81C1/00;B81C3/00 |
| 代理公司: | 合肥金安專利事務所 34114 | 代理人: | 金惠貞 |
| 地址: | 230088 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 反射 微型 原子 體腔 器件 | ||
1.具有雙反射鏡的微型原子氣體腔器件,所述原子氣體腔器件具有典型的三明治結構,其特征在于:中間層為中部具有通孔的硅片;頂層玻璃和底層玻璃結構相同,均為一側面具有反射鏡的玻璃,且頂層玻璃上的上反射鏡和底層玻璃上的下反射鏡均位于所述通孔內;所述通孔的橫截面為四邊形,且通孔的橫向寬度W大于硅片的厚度H。?
2.如權利要求1所述的具有雙反射鏡的微型原子氣體腔器件,其特征在于:所述通孔的橫截面為矩形或倒梯形;當通孔的橫截面為倒梯形時,所述通孔的橫截面的寬度W為通孔底面的寬度。?
3.如權利要求1或2所述的具有雙反射鏡的微型原子氣體腔器件,其特征在于:所述通孔若為干法刻蝕制作,硅片的類型不受限制,形成的通孔的側壁晶向也不受限制;通孔若為濕法腐蝕形成,硅片的類型為(100)型的硅片,且腐蝕形成的通孔的側壁與底層玻璃的夾角為54.7度。?
4.如權利要求1或2所述的具有雙反射鏡的微型原子氣體腔器件,其特征在于:通孔的橫向寬度W為硅片的厚度H的兩倍以上。?
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