[實(shí)用新型]一種鍍膜機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420169053.1
• 申請(qǐng)日: 2014-04-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203999793U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-12-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林楚興
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東光耀玻璃有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/18
• 代理公司: 汕頭市南粵專利商標(biāo)事務(wù)所(特殊普通合伙) 44301
• 代理人: 林逸平

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種鍍膜設(shè)備，尤其涉及一種玻璃鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)的鍍膜機(jī)在鍍膜過(guò)程中，容易沾染灰塵或者其他雜質(zhì)，使之受到二次污染；導(dǎo)致淋漆時(shí)，油漆和鏡片之間的粘合度不牢固，圖層附著力差，鍍膜厚度不均，穩(wěn)定度不足，容易產(chǎn)生掉漆，甚至出現(xiàn)斑紋。

本申請(qǐng)人有見(jiàn)于上述習(xí)知現(xiàn)有技術(shù)存在的不足之處，秉持研究創(chuàng)新、精益求精的精神，結(jié)合生產(chǎn)得出的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，利用專業(yè)科學(xué)的方法，提出一個(gè)省時(shí)有效的解決方案，因此提出本案申請(qǐng)。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于針對(duì)已有的技術(shù)現(xiàn)狀，提供鍍膜質(zhì)量好、精度高的鍍膜機(jī)。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

本實(shí)用新型為一種鍍膜機(jī)，其主要包括濺射室1、陽(yáng)極遮擋板3、濺射靶4，濺射靶4旁邊安裝有輔助陽(yáng)極2，濺射靶4在周圍覆蓋一層陽(yáng)極遮擋板3。

所述的濺射室1兩側(cè)分別設(shè)置氣口5，氣口5分別安裝設(shè)置有流量控制器61。

所述的氣口5通過(guò)輸送管51連接儲(chǔ)氣管6。

所述的濺射室1內(nèi)壁8同樣安裝有陽(yáng)極遮擋板3。

所述的濺射靶4采用鋁合金靶作為材質(zhì)。

所述的濺射室1上還安裝有溫度控制裝置7。

本實(shí)用新型的有益效果是：有效避免二次污染，提高了產(chǎn)品合格率和生產(chǎn)量，最大程度優(yōu)化鍍膜效果，并且可實(shí)現(xiàn)氣體流量的微調(diào)，降低了人工成本。

附圖說(shuō)明：

附圖1為實(shí)用新型之結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式：

為了使審查委員能對(duì)本實(shí)用新型之目的、特征及功能有更進(jìn)一步了解，茲舉較佳實(shí)施例并配合圖式詳細(xì)說(shuō)明如下：

圖1所示，本實(shí)用新型一種鍍膜機(jī)，其主要包括濺射室1、陽(yáng)極遮擋板3、濺射靶4，濺射靶4旁邊安裝有輔助陽(yáng)極2，濺射靶4在周圍覆蓋一層陽(yáng)極遮擋板3。輔助陽(yáng)極2和陽(yáng)極遮擋板3保證惰性氣體在磁場(chǎng)和電場(chǎng)中電離效果，當(dāng)惰性氣體被電離成正離子和電子后，使得電子與工作氣體的電離幾率增大，一般情況下所述的氣體為氬氣。陽(yáng)極遮擋板3的設(shè)置保證了灰塵或者其他雜質(zhì)與鍍膜發(fā)生污染或者變質(zhì)，使得膜層更加均勻、穩(wěn)定，避免斑紋的出現(xiàn)。

所述的濺射室1兩側(cè)分別設(shè)置氣口5，氣口5分別安裝設(shè)置有流量控制器61。所述的氣口5通過(guò)輸送管51連接儲(chǔ)氣管6，通過(guò)流量控制器61控制氣體的流量進(jìn)行定壓調(diào)節(jié)，以適應(yīng)鍍膜要求。

作為優(yōu)選的技術(shù)方案：所述的濺射室1內(nèi)壁8同樣安裝有陽(yáng)極遮擋板3。而濺射靶4采用鋁合金靶作為材質(zhì)，鋁材反射率、亮度、透明高，因此實(shí)際使用效果較佳。所述的濺射室1上還安裝有溫度控制裝置7用于監(jiān)測(cè)濺射室1的溫度。

當(dāng)然，以上圖示僅為本實(shí)用新型較佳實(shí)施方式，并非以此限定本實(shí)用新型的使用范圍，故，凡是在本實(shí)用新型原理上做等效改變均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。