[實用新型]一種可產生負離子的花盤結構

有效

• 申請號: 201420161853.9
• 申請日: 2014-04-04
• 公開（公告）號: CN203885158U
• 公開（公告）日: 2014-10-22
• 發明（設計）人: 陳章義
• 申請（專利權）人: 東莞市富旭基工藝品有限公司
• 主分類號: A47G7/06
• 分類號: A47G7/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可產生負離子的花盤結構，其特征在于：包括有陶瓷盆體（1）以及人造花（2），陶瓷盆體（1）成型有開口向上的容置腔（11），容置腔（11）內壁的上端部設置有上下間隔布置的上擋肩（12）以及位于上擋肩（12）下方的下擋肩（13），容置腔（11）內于下擋肩（13）的上端側裝設有擋板（3），容置腔（11）內于上擋肩（12）的上端側裝設有插花板（4），擋板（3）搭設于下擋肩（13），插花板（4）搭設于上擋肩（12），插花板（4）開設有上下完全貫穿的插花孔（41），人造花（2）的枝干（21）下端部插入于插花孔（41）內且與擋板（3）的上表面抵接；

容置腔（11）的底部于擋板（3）的下端側裝設有風扇（5）、負離子發生器（6）以及支撐架（7），支撐架（7）罩設于風扇（5）的上方，支撐架（7）的側壁開設有供氣流通過的通氣孔（71），負離子發生器（6）裝設于支撐架（7）的上端部，陶瓷盆體（1）的側壁開設有完全貫穿且與容置腔（11）連通的排氣孔（14）。