[實用新型]遠程等離子體系統與化學氣相沉積設備之間的連接裝置有效
| 申請號: | 201420152933.8 | 申請日: | 2014-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN203794981U | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發明(設計)人: | 劉濤;龔薈卓;金懿 | 申請(專利權)人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/00 | 分類號: | C23C16/00 |
| 代理公司: | 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吳世華;林彥之 |
| 地址: | 201210 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 遠程 等離子體 系統 化學 沉積 設備 之間 連接 裝置 | ||
1.一種遠程等離子體系統與化學氣相沉積設備之間的連接裝置,所述遠程等離子體系統設于所述化學氣相沉積設備上方,并通過連接管與所述化學氣相沉積設備的腔體連通,所述遠程等離子體系統將解離的離子氣體通過所述連接管輸送至所述化學氣相沉積設備的腔體內清洗腔體,其特征在于,所述連接管包括第一連接管和第二連接管,所述第一連接管、第二連接管之間加裝一隔離閥,將所述遠程等離子體系統和所述化學氣相沉積設備的腔體隔絕,所述遠程等離子體系統、第一連接管、隔離閥、第二連接管、化學氣相沉積設備腔體依次連接;其中,所述隔離閥打開時,所述遠程等離子體系統將解離的離子氣體通過所述第一連接管、隔離閥、第二連接管輸送至所述化學氣相沉積設備的腔體內清洗腔體,所述隔離閥關閉時,將所述化學氣相沉積設備的腔體與包括所述遠程等離子體系統在內的設備外部環境相隔絕。
2.如權利要求1所述的連接裝置,其特征在于,所述遠程等離子體系統、第一連接管、隔離閥、第二連接管、化學氣相沉積設備腔體依次按直線方向連接。
3.如權利要求1所述的連接裝置,其特征在于,所述遠程等離子體系統、第一連接管、隔離閥、第二連接管、化學氣相沉積設備腔體依次按直線方向采用卡口連接。
4.如權利要求1、2或3所述的連接裝置,其特征在于,所述遠程等離子體系統、第一連接管、隔離閥、第二連接管、化學氣相沉積設備腔體之間的各連接部位設有全氟密封圈密封。
5.如權利要求1、2或3所述的連接裝置,其特征在于,所述第一連接管和第二連接管是剛性金屬圓管連接管。
6.如權利要求1、2或3所述的連接裝置,其特征在于,所述隔離閥的口徑與所述第一連接管和第二連接管的管徑相同。
7.如權利要求1、2或3所述的連接裝置,其特征在于,所述隔離閥為手動隔離閥,所述手動隔離閥將所述遠程等離子體系統和所述化學氣相沉積設備的腔體隔絕。
8.如權利要求7所述的連接裝置,其特征在于,所述隔離閥為手動隔離閥,所述隔離閥設有安全銷。
9.如權利要求1、2或3所述的連接裝置,其特征在于,所述隔離閥為氣動隔離閥,所述氣動隔離閥將所述遠程等離子體系統和所述化學氣相沉積設備的腔體隔絕。
10.如權利要求1、2或3所述的連接裝置,其特征在于,所述隔離閥為氣動隔離閥,所述氣動隔離閥通過控制器與控制模塊連接,所述控制模塊執行對所述氣動隔離閥的開閉控制;其中,在清洗腔體時,所述控制模塊通過所述控制器執行打開所述氣動隔離閥,所述遠程等離子體系統將解離的離子氣體通過所述第一連接管、氣動隔離閥、第二連接管輸送至所述化學氣相沉積設備的腔體內清洗腔體,在所述遠程等離子體系統檢修或更換時,所述控制模塊通過所述控制器執行關閉所述氣動隔離閥,將所述化學氣相沉積設備的腔體與包括所述遠程等離子體系統在內的設備外部環境相隔絕。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





