[實用新型]用于商用氧化或氨氧化反應(yīng)器的改進的進料系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420150059.4
• 申請日: 2014-03-31
• 公開（公告）號: CN203916628U
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: T.R.麥克唐奈;J.R.庫奇;D.R.瓦納;P.T.瓦赫滕多夫;T.G.特拉弗斯
• 申請（專利權(quán)）人: 英尼奧斯歐洲股份公司
• 主分類號: B01J8/44
• 分類號: B01J8/44;C07C255/08;C07C253/26
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 肖日松;傅永霄

1.一種用于商用氧化或氨氧化反應(yīng)器的改進的進料系統(tǒng)，包括：

進料分布器，其用于將飽和的和/或不飽和的C3至C4烴和氨的混合物供應(yīng)至所述反應(yīng)器的內(nèi)部；以及

空氣格柵系統(tǒng)，其用于將空氣供應(yīng)至所述反應(yīng)器的內(nèi)部，

其中，所述進料分布器包括主集管管道和流體地附連到所述主集管管道且從所述主集管管道分出的支管管道，所述主集管管道和所述支管管道兩者均限定面向下的進料噴嘴，所述進料分布器系統(tǒng)還包括與相應(yīng)的進料噴嘴相關(guān)聯(lián)的進料護罩，每個進料護罩包括近端，所述近端連接到相應(yīng)的支管管道或集管管道且布置成將穿出其相應(yīng)的進料噴嘴的飽和的和/或不飽和的C3至C4烴和氨向下導(dǎo)向進入所述反應(yīng)器的內(nèi)部，

其中，所述空氣格柵系統(tǒng)包括布置在所述進料分布器系統(tǒng)下方的連續(xù)金屬板，所述連續(xù)金屬板限定在其中的一系列空氣孔，用于將工藝空氣從所述連續(xù)金屬板的下方導(dǎo)向至所述連續(xù)金屬板的上方，其中，在所述連續(xù)金屬板的上表面和所述進料護罩的遠(yuǎn)端之間的距離在15至61cm之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進的進料系統(tǒng)，其特征在于，在所述連續(xù)金屬板的上表面和所述進料護罩的遠(yuǎn)端之間的距離為20至30.5cm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進的進料系統(tǒng)，其特征在于，所述反應(yīng)器的外徑在8至12米之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的改進的進料系統(tǒng)，其特征在于，所述反應(yīng)器的外徑在9至11米之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的改進的進料系統(tǒng)，其特征在于，所述空氣孔為不帶蓋的。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的改進的進料系統(tǒng)，其特征在于，所述空氣孔為帶蓋的。